[發明專利]一種適用于多基色和超高分辨率的量子點彩膜結構在審
| 申請號: | 201711256429.7 | 申請日: | 2017-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN107797333A | 公開(公告)日: | 2018-03-13 |
| 發明(設計)人: | 徐勝;陳恩果;葉蕓;郭太良;林志賢;楊尊先;林映飛;繆煌輝 | 申請(專利權)人: | 福州大學 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 福州元創專利商標代理有限公司35100 | 代理人: | 蔡學俊,丘鴻超 |
| 地址: | 350116 福建省福州市*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 適用于 基色 超高 分辨率 量子 膜結構 | ||
1.一種適用于多基色和超高分辨率的量子點彩膜結構,其特征在于:包括玻璃基板、黑矩陣障壁、量子點漿料、封裝層、防藍光膜層、調光膜層;所述黑矩陣障壁通過光刻或印刷于玻璃基板上表面,并能夠根據需要設置成各種樣式排列,所述量子點漿料填充于所述黑矩陣障壁對應顏色子像素區域中,所述封裝層用于將量子點漿料封裝固化于黑矩陣障壁對應顏色子像素區域中,所述防藍光膜層、調光膜層從下到上依次設置于所述封裝層上;利用藍光去激發所述黑矩陣障壁對應顏色子像素區域的量子點,發出相應顏色的單色光,并通過所述防藍光膜層、調光膜層提高所述黑矩陣障壁對應顏色子像素區域出光顏色的純度,減少竄擾,且對透射出的光線起到正面矯直出射的作用,有效提高正面出光亮度。
2.根據權利要求1所述的一種適用于多基色和超高分辨率的量子點彩膜結構,其特征在于:所述量子點漿料填充于所述黑矩陣障壁內對應的子像素位置中的方式為:將單色量子點按比例溶于包括甲苯、氯苯、正己烷、正辛烷的一種或多種溶劑當中,再按比例均勻混合到油墨或樹脂材料當中,形成單色量子點漿料;而后,通過包括打印、印刷或光刻的工藝將單色量子點漿料分別轉印至所述黑矩陣障壁對應顏色子像素區域中,且所述黑矩陣障壁對應藍色子像素區域為空。
3.根據權利要求1所述的一種適用于多基色和超高分辨率的量子點彩膜結構,其特征在于:所述封裝層采用包括透明樹脂、光刻膠或者UV膠的隔水隔氧材料,通過包括印刷、噴墨打印、套印或旋涂的工藝進行制作;所述透明樹脂、光刻膠或者UV膠的隔水隔氧材料選自聚甲基丙烯酸甲酯、有機硅氧烷樹脂、丙烯酸酯改性有機硅樹脂、丙烯酸酯類樹脂、丙烯酸改性聚氨酯及環氧樹脂、感光樹脂、環氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯中的一種或幾種的混合。
4.根據權利要求1所述的一種適用于多基色和超高分辨率的量子點彩膜結構,其特征在于:所述防藍光膜層位置在所述黑矩陣障壁對應非藍色子像素區域的正上方,并且大小相匹配,成陣列排布;防藍光膜層通過鍍膜沉積或依附于所述調光膜層下表面,防藍光膜層的下層平面為布拉格反射器、防藍光覆膜或軟體,以降低藍光強度。
5.根據權利要求1所述的一種適用于多基色和超高分辨率的量子點彩膜結構,其特征在于:所述調光膜層為平面透鏡、棱鏡或者凸透鏡結構,具有導光以及調制出光光線角度功能。
6.根據權利要求5所述的一種適用于多基色和超高分辨率的量子點彩膜結構,其特征在于:所述平面透鏡結構厚度h為15um-50um,其作為防藍光膜層的基底。
7.根據權利要求5所述的一種適用于多基色和超高分辨率的量子點彩膜結構,其特征在于:所述棱鏡結構厚度h為15um-50um,其峰高l為15um-20um,起著導光作用;棱鏡結構的上頂角的角度a為10度至90度,該棱鏡結構起著正面聚光的效果。
8.根據權利要求5所述的一種適用于多基色和超高分辨率的量子點彩膜結構,其特征在于:所述凸透鏡結構為為凸微透鏡陣列結構且與黑矩陣障壁對應顏色子像素區域一一對應,其曲率半徑為7e-5 m到10e-5 m,對正面出光具有匯聚作用,以減少不同顏色光線竄擾。
9.根據權利要求1所述的一種適用于多基色和超高分辨率的量子點彩膜結構,其特征在于:所述黑矩陣障壁的排列方式為包括長方形子像素陣列排布、正方形子像素品字型排布、正方形子像素田字型排布、圓形子像素品字型排布、圓形子像素田字型排布的多邊形子像素排布方式;所述長方形子像素陣列排布,子像素長寬比例為3:1,其長寬范圍分別為90um-210um和30um-70um;所述正方形子像素品字型排布、正方形子像素田字型排布,子像素其邊長范圍是30um-70um;所述圓形子像素品字型排布、圓形子像素田字型排布,其半徑范圍為15um-35um。
10.根據權利要求1所述的一種適用于多基色和超高分辨率的量子點彩膜結構,其特征在于:黑矩陣障壁對應顏色子像素區域適用于包括紅綠藍三基色排布顯示、紅綠藍白或紅綠藍黃的多基色排布方式。
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