[發明專利]基于金屬多層介質膜的偏振選擇反射式光柵

有效

• 申請號: 201711252001.5
• 申請日: 2017-12-01
• 公開（公告）號: CN108008478B
• 公開（公告）日: 2022-09-09
• 發明（設計）人: 關賀元;江夢江;李翰光;郎宇威;王曉麗;陳哲;余健輝;盧惠輝;朱文國
• 申請（專利權）人: 暨南大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 邱奕才;凌衍芬

1.一種用于1550納米中心波長的基于金屬多層介質膜的偏振選擇反射式光柵，其特征在于，包括自內向外依次鍍制的石英基底（1）、金屬層（2）、匹配層（3）和光柵刻蝕層（4），所述光柵刻蝕層（4）包括自內向外依次鍍制的第一低折射率膜層（41）和第一高折射率膜層（42），所述匹配層（3）包括自內向外依次鍍制的第二低折射率膜層（31）與第二高折射率膜層（32），所述光柵刻蝕層（4）的周期為1200～1300納米，占空比為0.2～0.4，第一低折射率膜層（41）的厚度為100～160納米，第一高折射率膜層（42）的厚度為240～310納米，第二高折射率膜層（32）的厚度為90～150納米；第二低折射率膜層（31）的厚度為240～300納米，所述的金屬層（2）的厚度大于50納米。

2.根據權利要求1所述的基于金屬多層介質膜的偏振選擇反射式光柵，其特點在于，所述的第一高折射率膜層（42）與第二高折射率膜層（32）的材料為Si，TiO2，HfO2或Ta2O5，所述第一低折射率膜層（41）與第二低折射率膜層（31）的材料為SiO2。

3.根據權利要求1所述的基于金屬多層介質膜的偏振選擇反射式光柵，其特點在于，所述的金屬層（2）的材料為金、銀或鋁。