[發明專利]一種含苯胺基的兩親性氟硼二吡咯衍生物及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201711251171.1
• 申請日: 2017-12-01
• 公開（公告）號: CN107936046B
• 公開（公告）日: 2019-12-17
• 發明（設計）人: 劉靜;馬源;嚴軍林;雷海瑞;楊穎超
• 申請（專利權）人: 陜西師范大學
• 主分類號: C07F5/02
• 分類號: C07F5/02;C09K11/06;G01N21/64
• 代理公司: 61201 西安永生專利代理有限責任公司
• 代理人: 高雪霞

1.含苯胺基的兩親性氟硼二吡咯衍生物在檢測氯磷酸二乙酯氣體中的用途，所述含苯胺基的兩親性氟硼二吡咯衍生物的結構式如下所示：

式中n＝3～5的整數，R₁、R₂、R₃、R₄各自獨立的代表H或CH₃；其特征在于：將含苯胺基的兩親性氟硼二吡咯衍生物溶于PEG200中，配制成18μmol/L含苯胺基的兩親性氟硼二吡咯衍生物儲備液；將含苯胺基的兩親性氟硼二吡咯衍生物儲備液與具有親疏水微區的金基底相接觸，在親水性巰基十一烷酸單分子層區域形成液滴直徑為25～100μm的有序圖案，制備含苯胺基的兩親性氟硼二吡咯衍生物的PEG200微陣列單分子層熒光傳感薄膜；將含苯胺基的兩親性氟硼二吡咯衍生物的PEG200微陣列單分子層熒光傳感薄膜置于不含氯磷酸二乙酯的空氣中，采用熒光光譜儀測定傳感薄膜熒光發射強度I₀，然后將含苯胺基的兩親性氟硼二吡咯衍生物的PEG200微陣列單分子層熒光傳感薄膜置于不同濃度氯磷酸二乙酯蒸汽中，采用熒光光譜儀測定波長為590nm下不同濃度氯磷酸二乙酯體系對應的熒光發射強度I，繪制I/I₀值隨氯磷酸二乙酯濃度變化的標準曲線；按照上述方法用熒光光譜儀測量待測空氣的熒光強度，結合標準曲線的線性方程即可實現對待測空氣中氯磷酸二乙酯氣體的定性和定量檢測。