[發明專利]基于光電平臺精確模型的自抗擾控制器設計系統在審
| 申請號: | 201711250772.0 | 申請日: | 2017-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN108052003A | 公開(公告)日: | 2018-05-18 |
| 發明(設計)人: | 殷宗迪;董浩 | 申請(專利權)人: | 天津津航技術物理研究所 |
| 主分類號: | G05B13/04 | 分類號: | G05B13/04 |
| 代理公司: | 中國兵器工業集團公司專利中心 11011 | 代理人: | 袁孜 |
| 地址: | 300308 天津*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 光電 平臺 精確 模型 控制器 設計 系統 | ||
1.基于光電平臺精確模型的自抗擾控制器設計系統,其特征在于,共由系統辨識模塊、模型轉換模塊和自抗擾控制器設計模塊三個模塊組成;
1)系統辨識模塊
系統辨識模塊的功能是辨識實際系統模型,光電平臺系統為單輸入單輸出線性定常系統,其差分方程表示如公式(1)所示:
A(z
其中,A(z
利用AIC準則確定系統階次;
利用確定的分母階次與分子階次,采用最小二乘法,如公式(3)所示,可以求得系統的連續數學模型參數:
其中,
2)模型轉換模塊
模型轉換模塊的功能是將系統辨識模塊辨識出來的數學模型轉換為能直接設計自抗擾控制器的數學模型,即轉換為能觀標準型I型;
3)自抗擾控制器設計模塊
自抗擾控制器設計模塊是確定自抗擾控制器三大部分:跟蹤微分器、擴張狀態觀測器和狀態反饋;
根據能觀標準型I型中狀態變量x的階數n
利用系統矩陣A和輸入矩陣B,設計(n
其中,
狀態反饋采用誤差信號及其各階微分信號加權和的形式,如公式(9)所示:
其中,
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