[發明專利]探測器、深度測量探測器單元及其作用深度計算方法

在審

• 申請號: 201711249638.9
• 申請日: 2017-12-01
• 公開（公告）號: CN108113696A
• 公開（公告）日: 2018-06-05
• 發明（設計）人: 鄺忠華;楊永峰;王曉輝;付鑫;任寧;胡戰利;桑子儒;吳三;趙斌清;梁棟;劉新;鄭海榮
• 申請（專利權）人: 深圳先進技術研究院
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03
• 代理公司: 深圳青年人專利商標代理有限公司 44350
• 代理人: 傅俏梅

1.深度測量探測器單元，其特征在于，包括兩個間隔并排設置的閃爍晶體和兩個并排間隔設置且分別設于兩所述閃爍晶體一端的光電探測器，兩個所述閃爍晶體之間的空隙包括靠近所述光電探測器的第一分層空間、遠離所述光電探測器的第二分層空間和位于所述第一分層空間與所述第二分層空間之間的第三分層空間，所述第一分層空間內填充有第一反射膜，所述第二分層空間內填充有光學耦合體，所述第三分層空間內填充有空氣。

2.如權利要求1所述的深度測量探測器單元，其特征在于，所述第三分層空間全部填充空氣。

3.如權利要求1所述的深度測量探測器單元，其特征在于，所述第三分層空間內填充有空氣和第二反射膜。

4.如權利要求3所述的深度測量探測器單元，其特征在于，所述第二反射膜呈三角狀從所述第一反射膜延伸至所述光學耦合體；且/或，

所述第一反射膜和所述第二反射膜采用相同的材質制成。

5.如權利要求1所述的深度測量探測器單元，其特征在于，所述閃爍晶體具有朝向所述光電探測器的信號輸出端，所述深度測量探測器單元還包括包覆于兩個所述閃爍晶體外且避開所述信號輸出端的第三反射膜，所述第三反射膜與所述第一反射膜采用相同的材質制成。

6.如權利要求1至5任一項所述的深度測量探測器單元，其特征在于，所述閃爍晶體的形狀為長方體。

7.如權利要求6所述的深度測量探測器單元，其特征在于，所述閃爍晶體具有兩個分別靠近所述第一分層空間與所述第二分層空間的端面和四個分別連接兩個所述端面之四邊緣的側面，兩個所述端面經拋光處理，四個所述側面不經拋光處理；且/或，

所述閃爍晶體的尺寸為3mm*3mm*20mm。

8.如權利要求1至5任一項所述的深度測量探測器單元，其特征在于，所述光電探測器為硅光電倍增管或者多像素光子計數器或者光電倍增管或者雪崩光二極管；且/或，

所述光學耦合體的材質為光學膠或者光學油脂；且/或，

所述閃爍晶體的材質為硅酸釔镥或者硅酸镥或者碘化鈉或者溴化鑭；且/或，

所述第一反射膜為ESR；且/或，

所述第一分層空間、所述第二分層空間和所述第三分層空間都呈矩形。

9.如權利要求1至7任一項所述的深度測量探測器單元的作用深度計算方法，其特征在于，其實施方式為：采用兩個光電探測器分別對兩個閃爍晶體進行能量信號采集，定義兩個所述光電探測器采集到的能量信號分別為E₁和E₂，則這兩個所述閃爍晶體的相互作用深度信息分別可由E₁/(E₁+E₂)、E₂/(E₁+E₂)得到。

10.探測器，其特征在于，包括多個如權利要求1至7任一項所述的深度測量探測器單元，各所述深度測量探測器單元以光電探測器朝向一致的方式分成若干排和若干列排布。