[發明專利]一種硅堆的生產方法有效
| 申請號: | 201711249279.7 | 申請日: | 2017-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN107993943B | 公開(公告)日: | 2019-06-07 |
| 發明(設計)人: | 劉云燕;李廣德;李書濤;孫美玲;王碩;付圣貴;尹廣超;魏功祥 | 申請(專利權)人: | 山東理工大學 |
| 主分類號: | H01L21/50 | 分類號: | H01L21/50;H01L21/60 |
| 代理公司: | 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙) 11638 | 代理人: | 王新愛 |
| 地址: | 255000 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 生產 方法 | ||
1.一種硅堆的生產方法,其特征在于:
包括如下步驟:
步驟1:兩步法方形晶粒的切割
1.1、在硅晶片的厚度方向預切割,形成不完全切開的方形晶粒,硅晶片的切割深度為硅晶片總厚度的3/5~4/5;
1.2、將在厚度方向預切割的硅晶片N面朝上放在晶粒裂解紙上,切割刀口方向朝上,輕壓,使得不完全切開的方形晶粒完全裂解;
步驟2:晶粒放入吸盤搖粒
2.1、將透明防反罩放置于晶粒裂解紙下方,吸盤開口一側扣在晶粒裂解紙的晶粒上,然后將透明防反罩、晶粒裂解紙、方形晶粒、吸盤整體水平方向反轉,防反罩和晶粒吸盤適當用力夾緊,防止在反轉時晶粒相對移動,使得方形晶粒整體移入吸盤內;吸盤在下,吸盤之上依次為方形晶粒、晶粒裂解紙和透明防反罩;
2.2、拿起透明防反罩,移除透明防反罩和晶粒裂解紙,再在方形晶粒上方重新扣上透明防反罩,透明防反罩與晶粒吸盤之間的間距小于晶粒邊長,防止晃盤時翻轉;
2.3、晃動吸盤,吸盤開始吸附方形晶粒,確保吸盤的每一吸孔都吸附方形晶粒,并且吸盤的吸孔內方形晶粒方向一致無反轉;
2.4、打開真空開關,把吸盤孔的方形晶粒吸住,多余少量方形晶粒倒出它用;
步驟3:裝填
3.1、將下引線裝入下焊接舟;
3.2、將焊片放入焊片吸盤,并移入焊接舟,焊片落在引線之上;晶粒放入焊接舟,落在焊片之上,重復焊片—晶粒—焊片……晶粒—焊片的順序裝填,在焊接舟表面均勻噴灑助焊劑,合上載有上引線的上焊接舟;
其中方形晶粒可以任意角度放入,無需刻意調整晶粒放入的角度,焊片放入時也無需刻意調整位置;裝填過程注意隨時調整下引線托盤的控制螺絲的高度,隨著晶粒裝填,逐漸降低下引線托盤的深度,防止深度過深晶粒裝填時在焊接舟孔中翻轉;
3.3、焊片大小與方形晶粒大小之間遵循嚴格的尺寸比例關系,焊片過大,方形晶粒無法拉正,焊片過小,方形晶粒間接觸不良,47、55、90、134mil尺寸的方形晶粒分別對應的焊片尺寸為是:Φ1.30mm、厚度0.05mm;Φ1.70mm、厚度0.05mm;Φ2.80mm、厚度0.05mm;Φ3.56mm,厚度0.10mm;
步驟4:焊接
裝填好的焊接舟,放入焊接爐進行焊接,焊接溫度和時間為:
在常溫下,以16.5±0.5℃/min的升溫斜率加熱焊接溫度至310~320℃,
焊接溫度維持時間:5~10min;
再以7.0±0.5℃/min的降溫斜率降溫至70±5℃,最后自然降至室溫。
2.根據權利要求1所述的一種硅堆的生產 方法,其特征在于:
所述透明防反罩與晶粒吸盤之間空隙為0.4mm~1mm,防止晃盤時翻轉。
3.根據權利要求1所述的一種硅堆的生產 方法,其特征在于:
所述步驟3中焊片的組份為:
鉛:92.5%,
錫:5%,
銀:2.5%。
4.根據權利要求1所述的一種硅堆的生產 方法,其特征在于:
所述步驟4 中,焊接溫度維持時間為7分鐘。
5.根據權利要求1所述的一種硅堆的生產 方法,其特征在于:
所述步驟4 中,焊接溫度為315℃。
6.根據權利要求1所述的一種硅堆的生產 方法,其特征在于:
所述步驟4 中,晶粒在焊接爐加熱焊接過程中通以氮氣或氫氣保護。
7.根據權利要求6所述的一種硅堆的生產 方法,其特征在于:
所述焊接爐兩端設有上下對應氮氣風簾,氮氣流量都是1.2立方米/h,加熱區氮氣流量是4立方米/h。
8.根據權利要求1所述的一種硅堆的生產 方法,其特征在于:
所述焊接爐11m長,加熱區長度3.4m,緩沖區長度1m,其余是降溫區。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于山東理工大學,未經山東理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711249279.7/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:引線框架的制造工藝
- 下一篇:一種DFN二極管的制造工藝
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





