[發明專利]一種拱頂沉降的測量方法

有效

• 申請號: 201711248505.X
• 申請日: 2017-12-01
• 公開（公告）號: CN108036766B
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 楊秀仁;黃美群;彭智勇;王臣;魏運;宋偉;楊明;李霞;趙繼;韓玉珍;林放
• 申請（專利權）人: 北京城建設計發展集團股份有限公司
• 主分類號: G01C5/00
• 分類號: G01C5/00
• 代理公司: 北京天奇智新知識產權代理有限公司 11340
• 代理人: 王澤云

1.一種拱頂沉降的測量方法，其特征在于，包括：

調試安裝步驟，調整安裝于側塊構件基座上的激光測距裝置發射角度，使激光能投射至拱頂反射板；

初始高程測量步驟，基于發射點至基座底的距離L₁以及測量得到發射點至投射點之間的初始投射距離L₂計算基座底至投射點之間的初始總距離L；基于所述初始總距離L與激光投射初始傾角a得出投射點與基座底之間的初始高程差H；

實時高程測量步驟，基于實時發射點至投射點之間的距離L'₂與測斜裝置測得的側塊構件的實時傾角θ計算實時投射點與基座底之間的實時高程差H'

高程差值測量步驟，基于初始高程差H和實時高程差H'得出預制裝配式車站結構拱頂沉降值；

所述初始高程測量步驟中，基于下式計算發射點至基座底的距離：

式中：

L₁—為發射點至基座底的距離；

t—為基座激光測距裝置固定軸點至基座底的距離；

l—為發射點至基座激光測距裝置固定軸點的距離；

a—激光投射初始傾角；

基于下式計算基座底至投射點之間的初始總距離L：

L＝L₁+L₂

式中：

L—為基座底至投射點之間的初始總距離

L₂—為發射點至投射點之間的初始投射距離；

基于下式計算初始高程差H：

H＝L·sina

式中：

H—為投射點與基座底之間的初始高程差；

基于下式計算實時高程差H'

H'＝(L₁+L'₂)·sin(a+θ)-(Y-Y·cosθ)

式中：

H'—為實時投射點與基座底之間的實時高程差

L'₂—為實時發射點至投射點之間的距離

θ—為測斜裝置測出的側塊構件實時傾角

Y—為側塊構件上基座底至側塊構件底之間的垂直距離；

基于下式計算實時拱頂沉降值ΔH：

ΔH＝H-H'。

2.根據權利要求1所述的一種拱頂沉降的測量方法，其特征在于，所述調試安裝步驟中，在預制裝配式車站結構側塊構件上端區域安裝基座；和/或在安裝拱頂反射板時，根據兩向水平器對反射板進行水平調平。