[發(fā)明專利]變焦光鑷雙光子顯微成像裝置和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711242277.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108051414B | 公開(公告)日: | 2019-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉辰光;劉儉;陳剛;譚久彬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué);北京銳馳恒業(yè)儀器科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/64 | 分類號(hào): | G01N21/64;G02B21/32 |
| 代理公司: | 北京慕達(dá)星云知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人: | 崔自京 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 變焦 光鑷雙 光子 顯微 成像 裝置 方法 | ||
1.變焦光鑷雙光子顯微成像裝置,其特征在于:包括雙光子照明模塊、雙光子掃描模塊、雙光子探測(cè)模塊、光鑷聚焦模塊和光鑷軸向調(diào)焦模塊:
所述雙光子照明模塊按照光線傳播方向依次為:激光器一(1)、擴(kuò)束鏡(2);
所述雙光子掃描模塊按照光線傳播方向依次為:掃描振鏡(3)、掃描透鏡(4)、管鏡一(5)、二向色鏡一(6)、二向色鏡二(7)和物鏡一(8);
所述雙光子探測(cè)模塊按照光線傳播方向依次為:物鏡一(8)、二向色鏡二(7)、濾光片(10)、收集透鏡(11)和PMT(12);
所述光鑷聚焦模塊按照光線傳播方向依次為:偏振分光鏡(15)、管鏡三(14)、管鏡二(13)、二向色鏡一(6)、二向色鏡二(7)和物鏡一(8);
所述光鑷軸向調(diào)焦模塊按照光線傳播方向依次為:激光器二(21)、傳導(dǎo)光纖(20)、準(zhǔn)直鏡(19)、偏振分光鏡(15)、四分之一波片(16)、物鏡二(17)和平面反射鏡(18);
所述雙光子掃描模塊、光鑷聚焦模塊共用二向色鏡一(6)、二向色鏡二(7)與物鏡一(8);
所述光鑷聚焦模塊、光鑷軸向調(diào)焦模塊共用偏振分光鏡(15);
物鏡一(8)的下方設(shè)置被測(cè)樣品(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的變焦光鑷雙光子顯微成像裝置,其特征在于:所述被測(cè)樣品(9)為懸浮于培養(yǎng)皿中最大直徑為微米級(jí)或納米級(jí)單細(xì)胞、細(xì)胞群或微粒,且所述被測(cè)樣品(9)近似球形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的變焦光鑷雙光子顯微成像裝置,其特征在于:所述光鑷軸向調(diào)焦模塊,其發(fā)射單色激光波長(zhǎng)介于750nm-900nm之間,雙光子照明模塊,其發(fā)射單色飛秒激光波長(zhǎng)介于950nm-1100nm之間,激光脈沖寬度小于150fs,經(jīng)過(guò)二向色鏡一(6)合成光路,共用物鏡一(8)夾持和觀測(cè)被測(cè)樣品(9)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的變焦光鑷雙光子顯微成像裝置,其特征在于:所述偏振分光鏡(15)反射光偏振方向和準(zhǔn)直鏡(19)出射光偏振方向相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的變焦光鑷雙光子顯微成像裝置,其特征在于:所述平面反射鏡(18)軸向最大移動(dòng)范圍等于物鏡二(17)的焦深。
6.變焦光鑷雙光子顯微成像方法,該方法是基于權(quán)利要求1~5中任一所述變焦光鑷雙光子顯微成像裝置實(shí)現(xiàn)的,其特征在于:具體步驟:
步驟a、激光器一(1)發(fā)出脈沖飛秒激光,經(jīng)過(guò)擴(kuò)束鏡(2)之后形成寬束平行光,寬束平行光經(jīng)過(guò)掃描振鏡(3)、掃描透鏡(4)、管鏡一(5)、二向色鏡一(6)、二向色鏡二(7)、物鏡一(8)后在被測(cè)樣品(9)上形成聚焦光斑,所述聚焦光斑激發(fā)被測(cè)樣品(9)發(fā)出熒光;
步驟b、激光器二(21)發(fā)出激光,經(jīng)過(guò)傳導(dǎo)光纖(20)和準(zhǔn)直鏡(19)形成平行光,平行光經(jīng)偏振分光鏡(15)過(guò)四分之一波片(16)和物鏡二(17)出射到平面反射鏡(18),經(jīng)平面反射鏡(18)反射后的激光經(jīng)四分之一波片(16)、偏振分光鏡(15)、管鏡三(14)、管鏡二(13)、二向色鏡一(6)、二向色鏡二(7)和物鏡一(8)形成聚焦光斑,夾住被測(cè)樣品(9);
步驟c、設(shè)置平面反射鏡(18)初始位置位于物鏡二(17)的準(zhǔn)焦面②,則光鑷聚焦位置位于物鏡一(8)的準(zhǔn)焦面②’,設(shè)置平面反射鏡(18)軸向掃描范圍D1+D2,則對(duì)應(yīng)光鑷聚焦軸向掃描范圍為D1’+D2’,平面反射鏡(18)位置與光鑷聚焦位置對(duì)應(yīng)關(guān)系為D1/D1’=D2/D2’=(M1M2)2;所述D1為平面反射鏡(18)遠(yuǎn)焦位移,D1’為光鑷聚焦位置近焦位移,D2為平面反射鏡(18)近焦位移,D2’為光鑷聚焦位置遠(yuǎn)焦位移,M1為物鏡二(17)與管鏡三(14)的焦距比值,M2為管鏡二(13)與物鏡一(8)的焦距比值;
步驟d、設(shè)置掃描層數(shù)為N,則平面反射鏡(18)掃描步進(jìn)為(D1+D2)/N,光鑷聚焦光斑掃描步進(jìn)為(D1’+D2’)/N,從而實(shí)現(xiàn)快速三維層析掃描。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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