[發明專利]一種微納結構與疏水改質改性相復合的仿生減阻表面結構

有效

• 申請號: 201711241565.9
• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN108082388B
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 蘇琳;丁曉冬;宋昊;常鵬善;向平;李亮
• 申請（專利權）人: 中國船舶工業系統工程研究院
• 主分類號: B63B1/32
• 分類號: B63B1/32;B63B1/38
• 代理公司: 中國航天科技專利中心 11009
• 代理人: 范曉毅

1.一種微納結構與疏水改質改性相復合的仿生減阻表面結構，其特征在于，包括：基底層、肋條、弧形凸臺和充氣孔；其中，肋條、弧形凸臺和充氣孔均設置在基底層上，一方面形成了表面層的溝槽結構，另一方面具有疏水斜坑結構；

肋條等間距排布在基底層上，肋條高度為：5～10um，相鄰兩個肋條之間的間隔為：50～100um；

相鄰兩個肋條之間排布有弧形凸臺；其中，各弧形凸臺等間距排布，相鄰兩個弧形凸臺沿肋條方向的間隔為：100～200um；

兩個相鄰弧形凸臺之間設置有一充氣孔，充氣孔的直徑為：5～10um；

肋條高度大于弧形凸臺高度；

其中，各弧形凸臺呈設定傾斜角度設置在基底層上，兩個相鄰弧形凸臺與基底層形成密排孔；其中，設定傾斜角度為：5°～90°；

當設定傾斜角度為90°時，基底層的具體結構包括：設置在基底層底面的一敞口空腔；其中，充氣孔設置在基底層上、與所述敞口空腔聯通；

當設定傾斜角度不為90°時，基底層的具體結構包括：一氣體腔和一進氣口；其中，充氣孔設置在基底層上、與所述氣體腔聯通，進氣口設置在所述氣體腔的頂端或尾端；

密排孔、氣體腔、敞口空腔均充滿氣體，形成非連續分布的氣墊，從而減小了水流與減阻表面的固液接觸面積，達到減阻目的，氣墊非連續分布易于長久保持氣體封存狀態。

2.根據權利要求1所述的微納結構與疏水改質改性相復合的仿生減阻表面結構，其特征在于，所述微納結構與疏水改質改性相復合的仿生減阻表面結構，作為減阻表面，敷設在航行體表面。