[發明專利]硫酸鈣復合架空地板在審
| 申請號: | 201711240765.2 | 申請日: | 2017-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN107762103A | 公開(公告)日: | 2018-03-06 |
| 發明(設計)人: | 張琦佳;張琦燁 | 申請(專利權)人: | 江蘇華集地板有限公司 |
| 主分類號: | E04F15/024 | 分類號: | E04F15/024 |
| 代理公司: | 北京東正專利代理事務所(普通合伙)11312 | 代理人: | 蔡仲德 |
| 地址: | 213103 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硫酸鈣 復合 架空 地板 | ||
1.一種硫酸鈣復合架空地板,由基材和安裝在基材底部的支撐板組成,其特征在于,所述基材由模具澆筑加壓一體成型,其邊角處均設有下沉圓弧形斜面A(111)以及下沉斜角平臺A(112),下沉斜角平臺A與下沉圓弧形斜面A底邊連接,并與下沉圓弧形斜面A構成臺階A(11);所述基材角部兩側邊均設有橫向內凹的臺階B(12);支撐板的周邊不超出基材的周邊;所述架空地板在鋪設時,相鄰架空地板的臺階A均形成一個下沉孔,相鄰下沉圓弧形斜面A均形成一個與倒圓臺側面形狀一致的曲面。
2.根據權利要求1所述的硫酸鈣復合架空地板,其特征在于,下沉斜角平臺A的斜邊與其兩側的基材側邊的夾角為135°。
3.根據權利要求1所述的硫酸鈣復合架空地板,其特征在于,基材上表面邊緣貫通設置一圈下沉斜面C(131)以及與下沉斜面C底邊連接的下沉平臺C(132),下沉斜面C與下沉平臺C構成臺階C(13),臺階C位于臺階A上方形成雙層臺階結構。
4.根據權利要求3所述的硫酸鈣復合架空地板,其特征在于,臺階C在基材邊角處形成的圓弧與下沉圓弧形斜面A形成的圓弧為同心圓弧。
5.根據權利要求1所述的硫酸鈣復合架空地板,其特征在于,支撐板上設有與臺階B相對應的橫向內凹的臺階B'(22),臺階B'的周邊不超出臺階B的周邊。
6.根據權利要求1所述的硫酸鈣復合架空地板,其特征在于,所述基材為正方形結構,其兩對邊分別開設有矩形缺口A(14),缺口A的三邊均設有下沉斜面D(141)以及與下沉斜面D底邊連接的下沉平臺D(142),下沉斜面D與下沉平臺D形成下沉臺階D(143);缺口A下方對應的支撐板上開設有與缺口A形狀相匹配的缺口A'(23);所述架空地板在鋪設時,相鄰地板的矩形缺口拼接形成正方形結構。
7.根據權利要求1所述的硫酸鈣復合架空地板,其特征在于,支撐板為鍍鋅鋼板,其周邊尺寸比基材小1-3mm。
8.根據權利要求1-7任一所述的硫酸鈣復合架空地板,其特征在于,所述基材包括以下原料:硅酸鹽水泥30%-45%、硫酸鈣粉3%-10%、砂12%-20%、粉煤灰3%-10%以及水20%-30%;添加劑為:紙漿纖維2%-15%、白膠乳液0.1%-0.5%。
9.根據權利要求8所述的硫酸鈣復合架空地板,其特征在于,所述基材由模具澆筑加壓一體成型,加壓等級為10MPa-20MPa。
10.根據權利要求1所述的硫酸鈣復合架空地板,其特征在于,所述架空地板在鋪設時,架空地板的邊角下方設置支架,相鄰架空地板之間形成的下沉孔處設置螺釘(15),螺釘安裝在支架上,其頭部將相鄰臺階A壓緊在同一平面上,螺釘的頂面不高于架空地板的上表面。
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