[發明專利]陣列基板及其制造方法及顯示屏

有效

• 申請號: 201711240599.6
• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN109860203B
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: 李瑤
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L21/84
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 唐清凱

1.一種陣列基板，其特征在于，包括顯示區、以及位于所述顯示區外側的非顯示區；

所述非顯示區包括：

柔性襯底，表面設有若干凹槽，所述凹槽的側壁具有向所述凹槽外側凹的壁段；所述柔性襯底上相鄰所述凹槽之間的區域為走線區；

無機膜層，沉積形成于所述柔性襯底具有所述凹槽的表面，包括同時形成于所述走線區的第一無機膜層，以及形成于所述凹槽的底壁的第二無機膜層；所述第一無機膜層與所述第二無機膜層之間被凹槽的側壁斷開；

以及外圍金屬走線，形成于所述第一無機膜層的表面。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述凹槽的側壁與所述凹槽的底壁的夾角小于90度。

3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述凹槽的截面呈等腰梯形。

4.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述凹槽的深度大于1微米。

5.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，相鄰兩所述金屬走線之間具有若干個所述凹槽。

6.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，還包括形成于所述外圍金屬走線表面的保護層。

7.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述柔性襯底包括柔性襯底主體層和柔性襯底表層；所述凹槽貫穿所述柔性襯底表層。

8.一種顯示屏，其特征在于，包括權利要求1至7任一項所述的陣列基板。

9.一種權利要求1的陣列基板的制造方法，其特征在于，所述陣列基板的非顯示區的制造方法包括：

在柔性襯底上形成凹槽；

沉積無機膜層，以在所述柔性襯底的表面形成若干個第一無機膜層和若干個第二無機膜層；

在所述第一無機膜層表面形成外圍金屬走線。

10.根據權利要求9所述的陣列基板的制造方法，其特征在于，在柔性襯底上形成凹槽的操作為：

提供柔性襯底主體層；

在所述柔性襯底主體層上形成圖案化的柔性襯底表層，以使柔性襯底表層的鏤空區域與所述柔性襯底主體層構成所述凹槽。