[發(fā)明專利]共焦顯微鏡模式像差矯正裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711238228.4 | 申請日: | 2017-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN107991235B | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉辰光;趙唯松;劉儉;陳剛;王宇航;譚久彬 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué);北京銳馳恒業(yè)儀器科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/01 | 分類號: | G01N21/01;G01N21/21 |
| 代理公司: | 北京慕達星云知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人: | 崔自京 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯微鏡 模式 矯正 裝置 | ||
1.共焦顯微鏡模式像差矯正裝置,其特征在于:包括激光器(1)、雙面45°反光鏡(2)、分束鏡(3)、半波片(4)、空間光調(diào)制器(5)、反射鏡(6)、光闌(7)、偏振分束鏡(8)、XY掃描振鏡(9)、掃描透鏡(10)、管鏡(11)、物鏡(12)、1/4波片(13)、收集透鏡(15)、光纖小孔(16)和光電倍增管(17);
所述激光器(1)發(fā)出的激光經(jīng)雙面45°反光鏡(2)的一側(cè)反光鏡面反射后途經(jīng)分束鏡(3)到達半波片(4),經(jīng)半波片(4)調(diào)制后射入至空間光調(diào)制器(5),再經(jīng)空間光調(diào)制器(5)調(diào)制后射回至分束鏡(3),再經(jīng)分束鏡(3)反射至反射鏡(6),然后經(jīng)光闌(7)濾除高階衍射雜光后射到雙面45°反光鏡(2)的另一側(cè)反光鏡面,經(jīng)雙面45°反光鏡(2)再次反射后經(jīng)過偏振分束鏡(8)射至XY掃描振鏡(9)上,然后經(jīng)XY掃描振鏡(9)反射至掃描透鏡(10),再經(jīng)過管鏡(11)后經(jīng)過1/4波片(12)偏振面翻轉(zhuǎn)90°后被物鏡(13)聚焦至的打在待測樣品(14)上;聚焦后的光斑再從待測樣品(14)上反射回物鏡(13),經(jīng)過1/4波片(12),偏振面再次翻轉(zhuǎn)90°后依次經(jīng)過、管鏡(11)、掃面透鏡(10)和XY掃描振鏡(9),射在偏振分束鏡(8)上,再經(jīng)偏振分束鏡(8)反射至收集透鏡(15)并聚焦到光纖小孔(16),最后被光電倍增管(17)收集;
共焦顯微系統(tǒng)的模式像差矯正裝置的像差矯正方法:
步驟a、通過空間光調(diào)制器(5)調(diào)制,變換不同光波前形狀,得到不同圖像信息;
步驟b、通過不同圖像信息,計算相應(yīng)圖像質(zhì)量系數(shù),計算得到液晶光調(diào)制器(5)使圖像質(zhì)量最優(yōu)的調(diào)制狀態(tài);
步驟c、保持液晶光調(diào)制器(5)最優(yōu)狀態(tài),得到更高圖像質(zhì)量的圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的共焦顯微鏡模式像差矯正裝置,其特征在于:所述的激光器(1)、偏振分束鏡(8)、XY掃描振鏡(9)、掃描透鏡(10)、管鏡(11)、物鏡(12)和1/4波片(13)組成照明裝置,所述的照明裝置按照照明光傳播方向依次為:激光器(1)、偏振分束鏡(8)、XY掃描振鏡(9)、掃描透鏡(10)、管鏡(11)、物鏡(12)和1/4波片(13)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的共焦顯微鏡模式像差矯正裝置,其特征在于:所述的偏振分束鏡(8)、XY掃描振鏡(9)、掃描透鏡(10)、管鏡(11)、物鏡(12)、1/4波片(13)、收集透鏡(15)、光纖小孔(16)和光電倍增管(17)組成探測裝置,所述的探測裝置按照照明光傳播方向依次為:1/4波片(13)、物鏡(12)、管鏡(11)、掃描透鏡(10)、XY掃描振鏡(9)、偏振分束鏡(8)、收集透鏡(15)、光纖小孔(16)和光電倍增管(17)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的共焦顯微鏡模式像差矯正裝置,其特征在于:所述的雙面45°反光鏡(2)、分束鏡(3)、半波片(4)、空間光調(diào)制器(5)、反射鏡(6)、光闌(7)組成像差矯正裝置,所述的像差矯正裝置按照照明光傳播方向依次為:雙面45°反射鏡(2)、分束鏡(3)、半波片(4)、空間光調(diào)制器(5)、反射鏡(6)和光闌(7)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4任意一項所述的共焦顯微鏡模式像差矯正裝置,其特征在于:所述的激光器(1),所發(fā)射激光應(yīng)為偏振方向為水平方向的線偏振光。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的共焦顯微鏡模式像差矯正裝置,其特征在于:所述的空間光調(diào)制器(5)為完全相位調(diào)制型,其光軸為垂直方向,并且其調(diào)制中心對準(zhǔn)激光的光軸中心。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的共焦顯微鏡模式像差矯正裝置,其特征在于:所述的半波片(4)的快軸與激光偏振方向呈45°或135°,使激光通過半波片后偏振方向與空間光調(diào)制器光軸平行。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的共焦顯微鏡模式像差矯正裝置,其特征在于:所述的光闌(7)通過中心光斑,隔離其他高級衍射光。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





