[發(fā)明專利]確定電阻抗斷層成像的電極裝置的圓周形狀的設(shè)備和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711238035.9 | 申請日: | 2017-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN108113675B | 公開(公告)日: | 2021-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | Y.格貝爾 | 申請(專利權(quán))人: | 德爾格制造股份兩合公司 |
| 主分類號: | A61B5/0536 | 分類號: | A61B5/0536 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 臧永杰;杜荔南 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 確定 阻抗 斷層 成像 電極 裝置 圓周 形狀 設(shè)備 方法 | ||
1.一種用于電阻抗斷層成像的設(shè)備(1),所述設(shè)備用于對電極裝置的橢圓圓周形狀(20’)進行確定,其中所述電極裝置被分配給所述用于電阻抗斷層成像的設(shè)備(1)并且水平地布置在患者(35)的胸廓(34)上,所述設(shè)備(1)具有:
電極裝置,所述電極裝置具有大量電極(33),所述電極以彼此間隔開的方式被布置在生物(35)的所述胸廓(34)的范圍內(nèi)的身體圓周上;
- 信號饋入單元(51),
所述信號饋入單元被構(gòu)型并且被設(shè)置用于,
在測量周期的每個測量循環(huán)中將電饋入信號分別饋入到兩個以周期性的方式并且在一個測量周期中以改變的方式進行饋入的電極(37)上;
- 信號檢測單元(50),
所述信號檢測單元被構(gòu)型并且被設(shè)置用于,
在所述測量周期的所述測量循環(huán)其中的每個測量循環(huán)中檢測和提供所述大量電極(33)的大量測量信號(55);
- 計算和控制單元(70),
所述計算和控制單元被構(gòu)型并且被設(shè)置用于,執(zhí)行對所述大量電極(33)的所檢測到的所述大量測量信號(55)的處理并且從所檢測到的所述大量測量信號(55)中選擇出所選擇的測量信號(56)并且執(zhí)行對所述所選擇的測量信號(56)的處理;
- 被分配給所述計算和控制單元(70)的數(shù)據(jù)存儲單元(71),所述數(shù)據(jù)存儲單元被構(gòu)型并且被設(shè)置用于:
存儲和提供從所述測量信號(55)中所選擇的測量信號(56)信號走向(76)和對比數(shù)據(jù)(73);
其中,為了確定所述橢圓圓周形狀(20'),
- 由所述計算和控制單元(70)以與所述數(shù)據(jù)存儲單元(71)共同作用的方式從所述測量周期的每個測量循環(huán)的所述測量信號(55)中選擇和存儲所述測量信號(55)其中的如下測量信號作為所選擇的測量信號(56),所述所選擇的測量信號(56)已經(jīng)在那些與所述胸廓(34)上的兩個進行饋入的電極(37)對置地布置的電極對上被檢測到;
- 由所述計算和控制單元(70)以與所述數(shù)據(jù)存儲單元(71)共同作用的方式,在每個測量周期中分別確定和存儲相應(yīng)的所述所選擇的電極(36、36')的分別與在所述胸廓(34)上的所述兩個進行饋入的電極(37)對置地布置的電極對的相應(yīng)的所述所選擇的測量信號(56)的平均值(560);
- 由所述計算和控制單元(70)以與所述數(shù)據(jù)存儲單元(71)共同作用的方式,針對所述所選擇的電極(36、36')的每個電極對,分別由所述所選擇的測量信號(56)和針對所述所選擇的電極(36、36')所確定的所述平均值(560)來確定比例大小(72),作為當(dāng)前的信號走向(76);
- 由所述計算和控制單元(70)以與所述數(shù)據(jù)存儲單元(71)共同作用的方式,執(zhí)行所述當(dāng)前的信號走向(76)與來自標(biāo)準(zhǔn)信號走向(74、74'、74)的集合的至少一個標(biāo)準(zhǔn)信號走向(73)的對比,其中所述標(biāo)準(zhǔn)信號走向(74、74'、74)代表在所述胸廓(34)上的所述電極裝置的不同的橢圓圓周形狀的典型的信號走向;
- 由所述計算和控制單元(70)基于所述對比來確定在所述胸廓(34)上的所述電極裝置的當(dāng)前的橢圓圓周形狀(20’);
- 由所述計算和控制單元(70)來生成和提供控制信號(79),所述控制信號表明所述電極裝置的所當(dāng)前所確定的所述橢圓圓周形狀(20’)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(1),其中,所述計算和控制單元(70)被構(gòu)造用于協(xié)調(diào)輸出單元(80),其中所述輸出單元(80)被布置在所述用于電阻抗斷層成像的設(shè)備(1)中或者布置在所述用于電阻抗斷層成像的設(shè)備(1)上,或者被分配給所述用于電阻抗斷層成像的設(shè)備(1)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(1),其中,由所述計算和控制單元(70)以與所述信號饋入單元(51)共同作用的方式分別在所述測量周期的每個測量循環(huán)中選擇與所述兩個進行饋入的電極(37)對置的兩個直接相鄰的電極,作為用于檢測所述所選擇的測量信號(56)的相應(yīng)的電極對;而且實施所述兩個進行饋入的電極(37)的變型方案,使得在一個測量周期中,所述兩個進行饋入的電極(37)其中的每個電極最多兩次參與到在所述測量周期中的饋入,而在每個測量循環(huán)中,所述所選擇的電極(36、36')其中的每個電極在檢測所述所選擇的測量信號(56)時最多被考慮兩次。
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