[發明專利]一種釹鐵硼磁體及釹鐵硼磁體表面鍍層的方法

有效

• 申請號: 201711236461.9
• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN107937879B
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發明（設計）人: 毛華云;梁禮渭
• 申請（專利權）人: 金力永磁（寧波）科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/32;C23C14/16;C23C14/08;C22C38/12;C22C38/32;C22C38/06;C22C38/16;C22C38/10;C22C38/14
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 趙青朵

1.一種表面鍍有防腐層的釹鐵硼磁體，其特征在于，包括釹鐵硼磁體，復合在釹鐵硼磁體表面的多弧離子鍍層，以及復合在多弧離子鍍層表面的磁控濺射鍍層。

2.根據權利要求1所述的釹鐵硼磁體，其特征在于，所述多弧離子鍍層的厚度為0.5～3μm；

所述磁控濺射鍍層的厚度為3～20μm。

3.根據權利要求1所述的釹鐵硼磁體，其特征在于，所述多弧離子鍍層的鍍層材質包括鋁、鋅和鋁合金中的一種或多種；

所述磁控濺射鍍層的鍍層材質包括鋁、鋅和鋁合金中的一種或多種。

4.根據權利要求1所述的釹鐵硼磁體，其特征在于，所述多弧離子鍍層的鍍層材質包括鎳、銅、鏑合金、鋱合金、鎳鉻合金、鈦、鉬、三氧化二鋁、氧化鋯和氧化鋅中的一種或多種；

所述磁控濺射鍍層的鍍層材質包括鎳、銅、鏑合金、鋱合金、鎳鉻合金、鈦、鉬、三氧化二鋁、氧化鋯和氧化鋅中的一種或多種。

5.根據權利要求1所述的釹鐵硼磁體，其特征在于，所述多弧離子鍍層的鍍層材質包括鋁與軟金屬的合金；

所述軟金屬的莫氏硬度小于5；

所述磁控濺射鍍層的鍍層材質包括鋁與硬金屬的合金；

所述硬金屬的莫氏硬度大于等于5。

6.根據權利要求5所述的釹鐵硼磁體，其特征在于，所述釹鐵硼磁體為燒結釹鐵硼磁體；

所述釹鐵硼磁體中各成分按質量百分比組成，包括：Pr-Nd：28％～33％；Dy：0～10％；Tb：0～10％；Nb：0～5％；B：0.5％～2.0％；Al：0～3.0％；Cu：0～1％；Co：0～3％；Ga：0～2％；Gd：0～2％；Ho：0～2％；Zr：0～2％；余量為Fe；

所述軟金屬包括銅、鋅、錫、金和銀中的一種或多種；

所述硬金屬包括鋯、鎳、鎢、鈮、鉭、鉻和鉬中的一種或多種。

7.一種釹鐵硼磁體表面鍍層的鍍層方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)將經過處理的釹鐵硼磁體，進行多弧離子鍍后，得到表面復合有多弧離子鍍層的釹鐵硼磁體；

2)將上述步驟得到的表面復合有多弧離子鍍層的釹鐵硼磁體，進行磁控濺射鍍后，得到表面復合有磁控濺射鍍層的釹鐵硼磁體。

8.根據權利要求7所述的鍍層方法，其特征在于，所述多弧離子鍍的電流為20～80A；

所述多弧離子鍍的時間為0.2～1h。

9.根據權利要求7所述的鍍層方法，其特征在于，所述磁控濺射鍍的電流為5～25A；

所述磁控濺射鍍的時間為1～5h。

10.根據權利要求7所述的鍍層方法，其特征在于，所述多弧離子鍍的真空度為(1～9)×10^-3Pa；

所述磁控濺射鍍的真空度為(1～9)×10^-3Pa；

所述多弧離子鍍的溫度為80～200℃；

所述磁控濺射鍍的溫度為80～200℃；

所述處理包括酸洗處理和除雜處理中的一種或多種。