[發明專利]一種水蒸氣氧化退火系統有效
| 申請號: | 201711236439.4 | 申請日: | 2017-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN108022863B | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發明(設計)人: | 李喜峰;姜姝;楊祥;陳龍龍;張建華 | 申請(專利權)人: | 上海大學 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/336 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務所 11569 | 代理人: | 王戈 |
| 地址: | 200444*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 水蒸氣 氧化 退火 系統 | ||
1.一種水蒸氣氧化退火系統,其特征在于,所述退火系統包括:退火裝置、水蒸氣發生裝置、水氧檢測儀、比例閥、控制器和氣體導管,其中,
所述水蒸氣發生裝置與所述退火裝置通過所述氣體導管連接,所述比例閥設置在所述氣體導管上;
所述水氧檢測儀設置在所述退火裝置中且與所述控制器連接,所述水氧檢測儀用于檢測所述退火裝置中的水氧率數據;所述控制器與所述比例閥的控制端連接,所述控制器用于根據所述水氧率數據發出開度控制信號,所述比例閥根據所述開度控制信號控制流過所述比例閥的氣體量。
2.根據權利要求1所述的水蒸氣氧化退火系統,其特征在于,所述退火系統包括與所述控制器連接的報警裝置,所述控制器用于當所述水氧率數據大于設定的上限閾值或小于設定的下限閾值時,向所述報警裝置發出報警指令,所述報警裝置用于根據所述報警指令發出報警信號。
3.根據權利要求2所述的水蒸氣氧化退火系統,其特征在于,所述報警裝置包括分別與所述控制器連接的指示燈和蜂鳴器。
4.根據權利要求1所述的水蒸氣氧化退火系統,其特征在于,所述退火系統還包括設置在所述退火裝置上的第一泄壓閥,所述退火裝置的腔體通過所述第一泄壓閥的開啟與關閉實現與外界連通與隔絕。
5.根據權利要求4所述的水蒸氣氧化退火系統,其特征在于,所述退火系統還包括設置在所述退火裝置中的第一氣壓測量裝置,且所述第一氣壓測量裝置與所述控制器連接。
6.根據權利要求5所述的水蒸氣氧化退火系統,其特征在于,所述退火系統還包括設置在所述水蒸氣發生裝置上的第二泄壓閥,所述水蒸氣發生裝置的腔體通過所述第二泄壓閥的開啟與關閉實現與外界連通與隔絕。
7.根據權利要求6所述的水蒸氣氧化退火系統,其特征在于,所述退火系統還包括設置在所述水蒸氣發生裝置中的第二氣壓測量裝置,且所述第二氣壓測量裝置與所述控制器連接。
8.根據權利要求7所述的水蒸氣氧化退火系統,其特征在于,所述退火系統還包括顯示器,用于顯示所述水氧率數據、所述第一氣壓測量裝置測量的所述退火裝置中的氣壓數據。
9.根據權利要求8所述的水蒸氣氧化退火系統,其特征在于,所述顯示器還用于顯示所述第二氣壓測量裝置測量的所述水蒸氣發生裝置中的氣壓數據。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





