[發明專利]基板處理裝置的藥液管理系統、費用的計算方法及系統

在審

• 申請號: 201711234841.9
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN108957968A
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發明（設計）人: 中川俊元
• 申請（專利權）人: 株式會社平間理化研究所
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王婷

1.一種基板處理裝置的藥液管理系統，該基板處理裝置反復使用藥液對基板進行處理，其中，

所述基板處理裝置的藥液管理系統具備：

藥液調制裝置，其具備將在所述基板處理裝置中使用的所述藥液調制為新液的藥液調制部、貯存由所述藥液調制部調制出的所述新液的新液貯存部、及將貯存于所述新液貯存部的所述新液向所述基板處理裝置輸送的新液輸送機構，所述藥液調制裝置通過供所述新液流通的新液用配管與所述基板處理裝置連接；

補充液輸送機構，其通過補充液用配管與所述基板處理裝置連接，所述補充液用配管供向在所述基板處理裝置中反復使用的所述藥液補給的補充液流通，所述補充液輸送機構將所述補充液向所述基板處理裝置輸送；以及

濃度管理裝置，其對所述新液輸送機構及所述補充液輸送機構中的至少任一個進行控制，以使得在所述基板處理裝置中反復使用的所述藥液的濃度成為規定的濃度值或規定的濃度范圍內，

在所述新液用配管及所述補充液用配管中配備有累計流量計。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置的藥液管理系統，其中，

所述累計流量計具備通信功能。

3.一種基板處理裝置的藥液管理系統，該基板處理裝置反復使用藥液對基板進行處理，其中，

所述基板處理裝置的藥液管理系統具備：

藥液再生裝置，其具備將在所述基板處理裝置中使用后的所述藥液再生為能夠再利用的再生液的藥液再生部、貯存由所述藥液再生部再生后的所述再生液的再生液貯存部、及將貯存于所述再生液貯存部的所述再生液向所述基板處理裝置輸送的再生液輸送機構，所述藥液再生裝置通過供所述再生液流通的再生液用配管與所述基板處理裝置連接；

補充液輸送機構，其通過補充液用配管與所述基板處理裝置連接，所述補充液用配管供向在所述基板處理裝置中反復使用的所述藥液補給的補充液流通，所述補充液輸送機構將所述補充液向所述基板處理裝置輸送；以及

濃度管理裝置，其對所述再生液輸送機構及所述補充液輸送機構中的至少任一個進行控制，以使得在所述基板處理裝置中反復使用的所述藥液的濃度成為規定的濃度值或規定的濃度范圍內，

在所述再生液用配管及所述補充液用配管中配備有累計流量計。

4.根據權利要求3所述的基板處理裝置的藥液管理系統，其中，

所述累計流量計具備通信功能。

5.一種基板處理裝置的藥液管理系統，該基板處理裝置反復使用藥液對基板進行處理，其中，

所述基板處理裝置的藥液管理系統具備：

藥液調制裝置，其具備將在所述基板處理裝置中使用的所述藥液調制為新液的藥液調制部、貯存由所述藥液調制部調制出的所述新液的新液貯存部、及將貯存于所述新液貯存部的所述新液向所述基板處理裝置輸送的新液輸送機構，所述藥液調制裝置通過供所述新液流通的新液用配管與所述基板處理裝置連接；

藥液再生裝置，其具備將在所述基板處理裝置中使用后的所述藥液再生為能夠再利用的再生液的藥液再生部、貯存由所述藥液再生部再生后的所述再生液的再生液貯存部、及將貯存于所述再生液貯存部的所述再生液向所述基板處理裝置輸送的再生液輸送機構，所述藥液再生裝置通過供所述再生液流通的再生液用配管與所述基板處理裝置連接；

補充液輸送機構，其通過補充液用配管與所述基板處理裝置連接，所述補充液用配管供向在所述基板處理裝置中反復使用的所述藥液補給的補充液流通，所述補充液輸送機構將所述補充液向所述基板處理裝置輸送；以及

濃度管理裝置，其對所述新液輸送機構、所述再生液輸送機構及所述補充液輸送機構中的至少任一個進行控制，以使得在所述基板處理裝置中反復使用的所述藥液的濃度成為規定的濃度值或規定的濃度范圍內，

在所述新液用配管、所述再生液用配管及所述補充液用配管中配備有累計流量計。

6.根據權利要求5所述的基板處理裝置的藥液管理系統，其中，

所述累計流量計具備通信功能。