[發(fā)明專利]一種電弧噴涂防腐涂層的方法

在審

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• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN107779807A
• 公開（公告）日: 2018-03-09
• 發(fā)明（設計）人: 孫興寧
• 申請（專利權）人: 大連智訊科技有限公司
• 主分類號: C23C4/131
• 分類號: C23C4/131;C23C4/06
• 代理公司: 盤錦大工智訊專利代理事務所(特殊普通合伙)21244
• 代理人: 徐淑東,崔雪

技術領域

本發(fā)明涉及防腐技術，尤其涉及一種電弧噴涂防腐涂層的方法。

背景技術

從腐蝕機理而言，沿海工程船使用過程主要存在電化學腐蝕和海水腐蝕兩種作用。

電化學腐蝕是指金屬表面與離子導電的介質(zhì)因發(fā)生電化學作用而產(chǎn)生的破壞。其主要特點是其反應歷程可以分為兩個相對獨立并且可以同時進行的過程——陰極反應和陽極反應。它的主要特征是金屬與電解質(zhì)之間存在著一個帶電的界面層。

海水腐蝕是指在海洋環(huán)境中使用的設備及設施的腐蝕。海水中含鹽最高，成分極其復雜，是腐蝕性的電解質(zhì)。海水中含有較高濃度的氯離子及其他鹵素離子能阻止和破壞金屬的鈍化，使陽極過程較易進行。在海水的PH值條件下，海水腐蝕是氧去極化過程，陰極過程控制著腐蝕反應的速度。另外，海水流速、海洋生物等也常常是影響海水腐蝕的重要因素。

各種環(huán)境中的腐蝕極其復雜，對各種設備都存在不同程度的影響，主要有以下幾個方面。

①導致金屬材料整個表面或局部厚度減薄，從而影響其強度、剛度和機械物理性能；

②運動副表面磨損腐蝕加劇，使運動副表面粗糙度增加，從而加大阻力，影響甚至損壞作業(yè)機構的預期功能；對有密封要求的運動副表面(如油缸等)會出現(xiàn)密封性能降低；對于連接的部位會出現(xiàn)孔徑加大或縫隙變寬等現(xiàn)象；

③電氣元件在大氣、海水浸淋、鹽霧、電化學等作用下，導電性能下降，導致裝備在使用時操縱失靈，不能正常作業(yè)；

④金屬的局部區(qū)域出現(xiàn)從表及里的腐蝕裂紋，主裂紋與拉伸應力相互垂直。在主干裂紋延伸時，還有若干分枝發(fā)展，從而形成應力腐蝕破裂；

⑤金屬材料在腐蝕介質(zhì)和交變應力共同作用下使疲勞壽命下降。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，針對上述問題，提出一種電弧噴涂防腐涂層的方法，一般油漆的結合強度為10—15MPa，且受人為因素影響較大，而電弧噴涂技術在這方面有所改善。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術方案是：一種電弧噴涂防腐涂層的方法，包括以下步驟：

①噴涂材料被加熱、熔化；

②熔化的噴涂材料被霧化；

③熔融或軟化的微細顆粒的噴射飛行；

④粒子在基材表面發(fā)生碰撞、變形、凝固。

進一步地，電弧噴涂只能噴涂導電材料。

進一步地，所述噴涂材料為鋅鉻涂層。

進一步地，所述噴涂材料為Ni—P非晶態(tài)合金鍍層。化學鍍Ni—P鍍層與碳鋼零件相結合而構成腐蝕電池時，鍍層是陰極而不被腐蝕。因此，對于碳鋼而言，化學鍍Ni—P非晶態(tài)合金鍍層屬陰極鍍層，對鋼制零件具有優(yōu)越的隔離防腐作用。

本發(fā)明的另一個目的還公開了一種電弧噴涂防腐涂層，采用上述方法制備而成。

本發(fā)明一種電弧噴涂防腐涂層的方法，與現(xiàn)有技術相比較具有以下優(yōu)點：

電弧噴涂的施工工藝較簡單，即：表面處理——電弧噴涂——密封處理。電弧噴涂關鍵在于表面處理，一般表面處理后表面應干燥，無灰塵、油污、氧化皮、銹跡等，表面清潔度Sa3.0，粗糙度Rz：40—80μm。經(jīng)處理后的表面應在4h以內(nèi)進行電弧噴涂，以免噴砂表面氧化，導致涂層結合力下降；封閉處理可分為兩道，其中第一道封閉底漆全部滲透至涂層空隙中，起封閉作用；第二道面漆起進一步封閉作用和平整作用，同時具有抗外界環(huán)境腐蝕特性。

具體實施方式

以下結合實施例對本發(fā)明進一步說明：

實施例1

本實施例公開了一種電弧噴涂防腐涂層的方法，包括以下步驟：

①噴涂材料被加熱、熔化；

②熔化的噴涂材料被霧化；

③熔融或軟化的微細顆粒的噴射飛行；

④粒子在基材表面發(fā)生碰撞、變形、凝固。

電弧噴涂只能噴涂導電材料。

所述噴涂材料為鋅鉻涂層。

所述噴涂材料為Ni—P非晶態(tài)合金鍍層。化學鍍Ni—P鍍層與碳鋼零件相結合而構成腐蝕電池時，鍍層是陰極而不被腐蝕。因此，對于碳鋼而言，化學鍍Ni—P非晶態(tài)合金鍍層屬陰極鍍層，對鋼制零件具有優(yōu)越的隔離防腐作用。

一種電弧噴涂防腐涂層，采用上述方法制備而成。

本發(fā)明一種電弧噴涂防腐涂層的方法，與現(xiàn)有技術相比較具有以下優(yōu)點：