[發明專利]一種快速制備氧化鋯薄膜的低溫液相方法在審
| 申請號： | 201711233373.3 | 申請日： | 2017-11-30 |
| 公開（公告）號： | CN107902694A | 公開（公告）日： | 2018-04-13 |
| 發明（設計）人： | 夏國棟;涂廣升;王素梅 | 申請（專利權）人： | 齊魯工業大學 |
| 主分類號： | C01G25/02 | 分類號： | C01G25/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 250333 山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 快速 制備 氧化鋯 薄膜 低溫 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種快速制備氧化鋯薄膜的低溫液相方法，其特征在于包括如下步驟：
(1) 制備氧化鋯前驅體溶液：稱取硝酸氧鋯，量取溶劑，配置濃度為0.01-0.5摩爾/升的氧化鋯前驅體溶液，經過0.1-3小時的磁力攪拌和超聲分散形成澄清透明的氧化鋯前驅體溶液；
(2) 將氧化鋯前驅體溶液涂覆到清洗好的襯底上形成氧化鋯前驅體薄膜，經過0.5-4.9分鐘的光波退火，光波退火過程中的溫度為100-300 ℃；
(3) 步驟1和2可重復多次以得到不同厚度要求的氧化鋯薄膜。
2.根據權利要求1所述的一種快速制備氧化鋯薄膜的低溫溶液方法，其特征在于：所述的溶劑為乙二醇甲醚、乙醇、乙二醇、水中的一種或兩種以上。
3.根據權利要求1所述的一種快速制備氧化鋯薄膜的低溫溶液方法，其特征在于：所述涂覆方法為旋轉涂覆法、滴涂法、浸涂法、噴霧法或噴墨打印法。
4.根據權利要求2所述的一種快速制備氧化鋯薄膜的低溫溶液方法，其特征在于：所述的光波的生成儀器為用作廚具的光波爐、具有鹵素或類似燈管的加熱儀器。
5.根據權利要求2所述的一種快速制備氧化鋯薄膜的低溫溶液方法，其特征在于：所述的襯底為剛性襯底，如硅片、玻璃片；或柔性襯底，如塑料片、金屬片。
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