[發(fā)明專利]基板處理系統(tǒng)以及基板的處理費(fèi)用計(jì)算系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711232549.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108933093A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 中川俊元 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社平間理化研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;G03F7/30;G06Q10/06 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王婷 |
| 地址: | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 流量計(jì) 基板處理系統(tǒng) 服務(wù)器系統(tǒng) 藥液管理 費(fèi)用計(jì)算系統(tǒng) 累計(jì)流量 基板 配管 新液 調(diào)制 基板處理機(jī)構(gòu) 測(cè)定基板 處理機(jī)構(gòu) 基板制造 計(jì)算系統(tǒng) 通信功能 再生機(jī)構(gòu) 補(bǔ)充液 運(yùn)算部 再生液 計(jì)測(cè) 原液 存儲(chǔ) 網(wǎng)絡(luò) 再生 配備 補(bǔ)充 服務(wù) | ||
1.一種基板處理系統(tǒng),其中,
所述基板處理系統(tǒng)具備:
基板處理機(jī)構(gòu),其使用藥液對(duì)基板進(jìn)行處理;
藥液管理機(jī)構(gòu),其對(duì)在所述基板處理機(jī)構(gòu)反復(fù)使用的所述藥液的濃度進(jìn)行管理;以及
配管,其與所述基板處理機(jī)構(gòu)連接,將由所述藥液管理機(jī)構(gòu)向所述藥液供給的補(bǔ)充液輸送至所述基板處理機(jī)構(gòu),
在所述配管中配備有累計(jì)流量計(jì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng),其中,
所述基板處理系統(tǒng)還具備:
藥液調(diào)制機(jī)構(gòu),其將所述藥液調(diào)制為新液;以及
新液用配管,其與所述基板處理機(jī)構(gòu)及所述藥液調(diào)制機(jī)構(gòu)連接,通過(guò)所述藥液管理機(jī)構(gòu)向在所述基板處理機(jī)構(gòu)反復(fù)使用的藥液供給由所述藥液調(diào)制機(jī)構(gòu)調(diào)制出的所述新液,
在所述新液用配管中配備有累計(jì)流量計(jì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理系統(tǒng),其中,
所述基板處理系統(tǒng)還具備:
藥液再生機(jī)構(gòu),其將在所述基板處理機(jī)構(gòu)使用后的所述藥液再生為能夠再利用的再生液;以及
再生液用配管,其與所述基板處理機(jī)構(gòu)及所述藥液再生機(jī)構(gòu)連接,通過(guò)所述藥液管理機(jī)構(gòu)向在所述基板處理機(jī)構(gòu)反復(fù)使用的藥液供給由所述藥液再生機(jī)構(gòu)再生后的所述再生液,
在所述再生液用配管中配備有累計(jì)流量計(jì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng),其中,
所述基板處理系統(tǒng)還具備:
藥液再生機(jī)構(gòu),其將在所述基板處理機(jī)構(gòu)使用后的所述藥液再生為能夠再利用的再生液;以及
再生液用配管,其與所述基板處理機(jī)構(gòu)及所述藥液再生機(jī)構(gòu)連接,通過(guò)所述藥液管理機(jī)構(gòu)向在所述基板處理機(jī)構(gòu)反復(fù)使用的藥液供給由所述藥液再生機(jī)構(gòu)再生后的所述再生液,
在所述再生液用配管中配備有累計(jì)流量計(jì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的基板處理系統(tǒng),其中,
所述累計(jì)流量計(jì)具備通信功能。
6.一種基板處理系統(tǒng),其中,
所述基板處理系統(tǒng)具備:
基板處理機(jī)構(gòu),其使用藥液對(duì)基板進(jìn)行處理;
藥液調(diào)制機(jī)構(gòu),其將所述藥液調(diào)制為新液;以及
新液用配管,其與所述基板處理機(jī)構(gòu)及所述藥液調(diào)制機(jī)構(gòu)連接,將由所述藥液調(diào)制機(jī)構(gòu)調(diào)制出的所述新液輸送至所述基板處理機(jī)構(gòu),
在所述新液用配管中配備有累計(jì)流量計(jì)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理系統(tǒng),其中,
所述累計(jì)流量計(jì)具備通信功能。
8.一種基板處理系統(tǒng),其中,
所述基板處理系統(tǒng)具備:
基板處理機(jī)構(gòu),其使用藥液對(duì)基板進(jìn)行處理;
藥液再生機(jī)構(gòu),其將在所述基板處理機(jī)構(gòu)使用后的所述藥液再生為能夠再利用的再生液;以及
再生液用配管,其與所述基板處理機(jī)構(gòu)及所述藥液再生機(jī)構(gòu)連接,將由所述藥液再生機(jī)構(gòu)再生后的所述再生液輸送至所述基板處理機(jī)構(gòu),
在所述再生液用配管中配備有累計(jì)流量計(jì)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板處理系統(tǒng),其中,
所述累計(jì)流量計(jì)具備通信功能。
10.一種基板的處理費(fèi)用計(jì)算系統(tǒng),其中,
所述基板的處理費(fèi)用計(jì)算系統(tǒng)具備:
基板處理機(jī)構(gòu),其使用藥液對(duì)基板進(jìn)行處理;
下述組合中的至少任一組合:對(duì)在所述基板處理機(jī)構(gòu)反復(fù)使用的所述藥液的濃度進(jìn)行管理的藥液管理機(jī)構(gòu)、與同所述基板處理機(jī)構(gòu)連接且將由所述藥液管理機(jī)構(gòu)向所述藥液供給的補(bǔ)充液輸送至所述基板處理機(jī)構(gòu)的配管的組合,將所述藥液調(diào)制為新液的藥液調(diào)制機(jī)構(gòu)、與同所述基板處理機(jī)構(gòu)及所述藥液調(diào)制機(jī)構(gòu)連接且將由所述藥液調(diào)制機(jī)構(gòu)調(diào)制出的所述新液輸送至所述基板處理機(jī)構(gòu)的新液用配管的組合,以及將在所述基板處理機(jī)構(gòu)使用后的所述藥液再生為能夠再利用的再生液的藥液再生機(jī)構(gòu)、與同所述基板處理機(jī)構(gòu)及所述藥液再生機(jī)構(gòu)連接且將由所述藥液再生機(jī)構(gòu)再生后的所述再生液輸送至所述基板處理機(jī)構(gòu)的再生液用配管的組合;
基板處理系統(tǒng),其在所述配管、所述新液用配管以及所述再生液用配管配備有具有通信功能的累計(jì)流量計(jì);以及
服務(wù)器系統(tǒng),其經(jīng)由網(wǎng)絡(luò)與所述累計(jì)流量計(jì)連接,
所述服務(wù)器系統(tǒng)具備:
接收部,其經(jīng)由所述網(wǎng)絡(luò)而接收所述累計(jì)流量計(jì)所計(jì)測(cè)出的累計(jì)流量;
存儲(chǔ)部,其按照每個(gè)所述累計(jì)流量計(jì)而存儲(chǔ)由所述接收部接收到的所述累計(jì)流量的歷史信息;以及
運(yùn)算部,其基于由所述存儲(chǔ)部存儲(chǔ)的所述歷史信息,按照每個(gè)所述基板處理系統(tǒng)而計(jì)算規(guī)定期間內(nèi)的由所述基板處理系統(tǒng)處理的基板的處理費(fèi)用。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 云計(jì)算渲染系統(tǒng)及渲染系統(tǒng)
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- 藥液的濃度管理裝置、再生裝置、費(fèi)用的計(jì)算方法及系統(tǒng)
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- 藥液的濃度管理裝置、再生裝置及費(fèi)用的計(jì)算系統(tǒng)
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