[發明專利]光敏自潔抗菌陶瓷的制備方法在審
| 申請號： | 201711232529.6 | 申請日： | 2017-11-30 |
| 公開（公告）號： | CN109851320A | 公開（公告）日： | 2019-06-07 |
| 發明（設計）人： | 許濤亮;張婭;劉燕;羅燕 | 申請（專利權）人： | 四川白塔新聯興陶瓷集團有限責任公司 |
| 主分類號： | C04B33/132 | 分類號： | C04B33/132;C04B33/34;C03C8/00;C04B41/86 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 642450 四川省內江市威遠縣嚴陵工業園區*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 制備 抗菌陶瓷 光敏 自潔 致病微生物 陶瓷表面 燒成 施釉 制粉 制漿 陶瓷 細菌 繁殖 生長 感染 阻礙 傳播 安全 | ||
【權利要求書】：
1.光敏自潔抗菌陶瓷的制備方法，其特征在于包括以下步驟：
A.配料：按照重量百分比稱取坯體原料，高嶺土10%，風化砂7% ，鉀長石28% ，低火泥32% ，精白砂12% ，廢坯粉4% ，黑滑石7%；
B.制漿：按照A中的比例稱好原料，并按照料：球：水=1：2：0.35的比例放入球磨機內球磨混合原料；球磨機球磨后形成過250目篩篩余量1.2~1.7%的料漿；
C.制粉：將步驟B中得到的漿料通過噴霧干燥器制成料粉，然后陳化2~3天；
D.壓制成型：將步驟C中得到陳化后的料粉壓制成磚坯；
E.干燥：將步驟C得到的粉料壓制成磚坯，然后梯度升溫至200℃，干燥后磚坯含水率在0.5~1%，坯體溫度65~70℃；
F.施釉：釉料由如下重量百分比的組分組成：SiO2 52～72％、Al2O3 5～9％、CaO 6～10％、K2O 2～6％、Na2O 0.5～1.5％、ZnO 0.5～3％、Li2O 1～3％、TiO2 4～8％、V2O5 1～3％、Ag2O3 1～5％；
G.燒成：經施釉后的坯體置于窯內燒成，梯度升溫至1200～1270℃，燒成時間40~90min，氧化氣氛圍。
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