[發(fā)明專利]等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法、晶圓監(jiān)測(cè)件和監(jiān)控系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711230315.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109839388A | 公開(公告)日: | 2019-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉季霖;吳狄 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/95 | 分類號(hào): | G01N21/95 |
| 代理公司: | 上海信好專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 朱成之 |
| 地址: | 201201 上海市浦東新*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶圓監(jiān)測(cè) 等離子處理 晶圓產(chǎn)品 實(shí)時(shí)監(jiān)控 運(yùn)行狀態(tài) 等離子 等離子體 等離子體處理 監(jiān)控系統(tǒng) 反應(yīng)物 等離子體反應(yīng)腔 等離子反應(yīng)腔 標(biāo)準(zhǔn)等離子 工藝條件 涂層制備 報(bào)廢率 涂層面 監(jiān)測(cè) 晶圓 生產(chǎn) | ||
1.一種等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,該監(jiān)控方法包含:
步驟1,在晶圓監(jiān)測(cè)基體上設(shè)置反應(yīng)物涂層制備晶圓監(jiān)測(cè)件;
步驟2,將晶圓監(jiān)測(cè)件與第n批待等離子處理晶圓產(chǎn)品一起置于等離子反應(yīng)腔中,反應(yīng)物涂層面朝向待監(jiān)測(cè)的等離子體;
步驟3,開啟等離子體反應(yīng)腔,生成等離子體,按等離子處理晶圓產(chǎn)品同樣的工藝條件進(jìn)行等離子處理;
步驟4,將經(jīng)等離子處理后的第n批晶圓監(jiān)測(cè)件與標(biāo)準(zhǔn)等離子運(yùn)行狀態(tài)的等離子體處理的晶圓監(jiān)測(cè)件或第m批等離子體處理的晶圓監(jiān)測(cè)件進(jìn)行比較,從而判斷等離子工作是否正常,其中,n、m均取自然數(shù),且m<n。
2.如權(quán)利要求1所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,所述的晶圓監(jiān)測(cè)基體選擇待等離子處理晶圓樣品或與晶圓樣品同樣的襯底。
3.如權(quán)利要求1所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,所述的反應(yīng)物涂層的活性成分為一種或多種與等離子體反應(yīng)后能發(fā)生顏色變化的化合物。
4.如權(quán)利要求3所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,所述的化合物包含鄰苯二酸酐、苯炔、苯甲醚、環(huán)己烷、苯胺、嘌呤中的任意一種。
5.如權(quán)利要求3所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,所述的晶圓監(jiān)測(cè)件還包含:通過(guò)背膠層粘結(jié)在晶圓監(jiān)測(cè)基體上的薄膜層,其中,反應(yīng)物涂層設(shè)置在薄膜層上。
6.如權(quán)利要求1-5中任意一項(xiàng)所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,晶圓監(jiān)測(cè)基體兩面均設(shè)置有反應(yīng)物涂層。
7.如權(quán)利要求1所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,步驟4是通過(guò)監(jiān)控系統(tǒng)監(jiān)測(cè)、判斷等離子工作是否正常;所述的監(jiān)控系統(tǒng)包含:檢測(cè)平臺(tái)、光源、攝像裝置及、與攝像裝置信號(hào)連接的數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)。
8.如權(quán)利要求7所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,所述的光源為標(biāo)準(zhǔn)白光燈。
9.如權(quán)利要求7所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,所述的步驟4包含:
步驟4.1,將經(jīng)第n批等離子體處理后的晶圓監(jiān)測(cè)件置于檢測(cè)平臺(tái)上,采用光源進(jìn)行照射;
步驟4.2,使用攝像裝置拍攝記錄等離子體處理后的晶圓監(jiān)測(cè)件上的圖像信息,并將該圖像信息反饋至數(shù)據(jù)處理系統(tǒng);
步驟4.3,通過(guò)數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)將該圖像信息與經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)等離子運(yùn)行狀態(tài)的等離子體處理的晶圓監(jiān)測(cè)件或第m批等離子體處理的晶圓監(jiān)測(cè)件進(jìn)行比較、并經(jīng)邏輯判斷等離子體的運(yùn)行狀態(tài)是否正常。
10.如權(quán)利要求9所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,所述的圖像信息包含:圖像的條紋形狀信息及圖像的顏色的RGB值信息。
11.如權(quán)利要求10所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,所述的攝像裝置為高清攝像裝置,能拍攝出包含條紋形狀信息及圖像的顏色的RGB值信息的圖像。
12.如權(quán)利要求1所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法,其特征在于,步驟4所述的比較方法為:若差異在閾值范圍內(nèi),則認(rèn)為該反應(yīng)腔內(nèi)等離子工作狀態(tài)正常;若差異超過(guò)閾值,則表示等離子工作狀態(tài)不正常,需停止工作并查找原因。
13.一種用于權(quán)利要求1所述的等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法的晶圓監(jiān)測(cè)件,其特征在于,該晶圓監(jiān)測(cè)件包含:
晶圓監(jiān)測(cè)基體;
背膠層;
通過(guò)背膠層粘結(jié)在晶圓監(jiān)測(cè)基體至少一個(gè)表面上的薄膜層;及
設(shè)置在薄膜層上的反應(yīng)物涂層;
其中,反應(yīng)物涂層的活性成分為一種或多種與等離子體反應(yīng)后能發(fā)生顏色變化的化合物。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司,未經(jīng)中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711230315.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 監(jiān)測(cè)晶圓托盤平整性的方法
- 一種晶圓清洗裝置
- 一種監(jiān)測(cè)晶圓固定器應(yīng)力的方法
- 晶圓可接受性測(cè)試機(jī)臺(tái)內(nèi)部環(huán)境的監(jiān)測(cè)方法和監(jiān)測(cè)裝置
- 晶圓識(shí)別碼的監(jiān)測(cè)方法以及監(jiān)測(cè)結(jié)構(gòu)
- 等離子運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控方法、晶圓監(jiān)測(cè)件和監(jiān)控系統(tǒng)
- 晶圓監(jiān)測(cè)裝置及晶圓監(jiān)測(cè)方法
- 晶圓偏移監(jiān)測(cè)裝置
- 半導(dǎo)體工藝設(shè)備及晶圓狀態(tài)監(jiān)測(cè)方法
- 晶圓監(jiān)測(cè)裝置
- 實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)
- 輸液實(shí)時(shí)監(jiān)控方法及輸液實(shí)時(shí)監(jiān)控裝置
- 實(shí)時(shí)監(jiān)控裝置、實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)以及實(shí)時(shí)監(jiān)控方法
- 實(shí)時(shí)性能監(jiān)控
- 物品運(yùn)輸實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)及實(shí)時(shí)監(jiān)控方法
- 實(shí)時(shí)綜合監(jiān)控系統(tǒng)及實(shí)時(shí)綜合監(jiān)控方法
- 基于插件的監(jiān)控后臺(tái)業(yè)務(wù)定制方法及其系統(tǒng)
- 一種衛(wèi)星通信系統(tǒng)實(shí)時(shí)監(jiān)控處理系統(tǒng)
- 一種實(shí)時(shí)監(jiān)控干衣機(jī)、實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)及實(shí)時(shí)監(jiān)控方法
- 實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)





