[發明專利]研磨拋光設備和研磨拋光方法

有效

• 申請號: 201711229251.7
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN108188916B
• 公開（公告）日: 2023-08-04
• 發明（設計）人: 周小輝;謝慶豐
• 申請（專利權）人: 東莞華晶粉末冶金有限公司
• 主分類號: B24B31/02
• 分類號: B24B31/02;B24B31/12
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司 44223
• 代理人: 王震宇

1.一種研磨拋光設備，包括滾筒，所述滾筒內用于放置待研磨拋光的產品和磨料，所述滾筒由驅動裝置驅動旋轉以對產品進行研磨，其特征在于，還包括設置在所述滾筒的筒壁內表面上的吸氣治具，所述吸氣治具具有朝向所述滾筒內部開放的第一吸氣孔，待研磨拋光的產品通過所述吸氣治具吸氣所產生的負壓吸附于所述滾筒的內表面；

所述滾筒的筒壁為具有內層壁和外層壁的雙層壁，所述內層壁和外層壁之間形成有密閉抽氣腔，所述內層壁上開設有連通所述第一吸氣孔與所述密閉抽氣腔的第二吸氣孔；所述滾筒具有主軸，所述主軸的內部中空形成密閉氣道，所述密閉抽氣腔在所述筒壁的軸向端部通過第一吸氣管連接所述密閉氣道，所述密閉氣道通過從所述滾筒的主軸末端上沿軸向向外延伸第二吸氣管連接到外部抽氣設備。

2.如權利要求1所述的研磨拋光設備，其特征在于，所述吸氣治具和所述內層壁的內表面為橡膠材質。

3.如權利要求1所述的研磨拋光設備，其特征在于，所述吸氣治具在待研磨拋光產品的安放區域的周緣處設置有密封圈，所述內層壁在所述吸氣治具的安裝區域的周緣處設置有密封圈。

4.如權利要求1至3任一項所述的研磨拋光設備，其特征在于，所述滾筒上設置有控制吸氣通道的開閉的吸氣開關。

5.如權利要求1至3任一項所述的研磨拋光設備，其特征在于，所述滾筒為橫截面為正多邊形的滾筒，所述筒壁內壁的至少一個面上設置有所述吸氣治具。

6.一種研磨拋光方法，其特征在于，使用權利要求1至5任一項所述的研磨拋光設備對產品進行研磨拋光。

7.如權利要求6所述的研磨拋光方法，其特征在于，磨料包括按照質量比1?：40～160?：20～100的拋光粉、高頻瓷、水；其中所述拋光粉是粒徑為30～400nm的SiO₂或Al₂O₃?微粉顆粒；所述高頻瓷是直徑為1.5～8mm、長度為3～26mm的圓柱狀Al₂O₃顆粒，添加的所述高頻瓷與所述滾筒的內腔的體積比為1?:?3～6.2。

8.如權利要求6或7所述的研磨拋光方法，其特征在于，?研磨拋光過程中將所述滾筒的轉速控制在20～60rpm，加工時間控制在12?～72小時。