[發明專利]一種渦輪葉片的化學氣相沉積Al-Si的方法有效
| 申請號: | 201711228750.4 | 申請日: | 2017-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN107937882B | 公開(公告)日: | 2020-06-02 |
| 發明(設計)人: | 張鐵磊;崔啟政;李宏然;王烜烽 | 申請(專利權)人: | 無錫透平葉片有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/12 | 分類號: | C23C16/12;C23C16/24;C23C16/448 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 鞏克棟 |
| 地址: | 214174 江蘇省無*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 渦輪 葉片 化學 沉積 al si 方法 | ||
1.一種渦輪葉片的化學氣相沉積Al-Si的方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)將葉片進行遮蔽并裝夾在主反應器上;
(2)將主反應器抽真空,通入Ar加壓至100-500mbar,再加熱至900-1050℃后通入H2;
(3)加熱外部Al反應器至300-330℃,通入HCl和H2進行反應;
(4)將步驟(3)得到的產物通入內部Al反應器反應120-240min,進行滲Al;
(5)將液相SiCl4氣化后與Ar混合通入主反應器反應60-180min,進行滲Si;
(6)主反應器通入H2進行擴散熱處理,處理溫度為980-1050℃,處理時間為2-4h,再通入Ar冷卻后取下葉片。
2.一種如根據權利要求1所述方法沉積得到的滲Al-Si渦輪葉片。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





