[發(fā)明專利]磁羅盤校準(zhǔn)方法、裝置及無人機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711227641.0
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN107741223B
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何彬全
• 申請（專利權(quán)）人: 天津聚飛創(chuàng)新科技有限公司
• 主分類號: G01C17/38
• 分類號: G01C17/38
• 代理公司: 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371
• 代理人: 王術(shù)蘭

1.一種磁羅盤校準(zhǔn)方法，其特征在于，應(yīng)用于無人機(jī)，所述方法包括：

控制機(jī)身進(jìn)入第一飛行姿態(tài)；

在所述第一飛行姿態(tài)下沿第一平面上的第一方向采集多個(gè)第一磁場數(shù)據(jù)；

控制所述機(jī)身進(jìn)入第二飛行姿態(tài)；

在所述第二飛行姿態(tài)下沿第二平面上的第二方向采集多個(gè)第二磁場數(shù)據(jù)，所述第二平面與所述第一平面垂直；

根據(jù)所述第一磁場數(shù)據(jù)及第二磁場數(shù)據(jù)，利用公式：

P＝[a b c d e f g]^T，

及

μ＝V^T×P

計(jì)算用于對所述無人機(jī)的磁羅盤進(jìn)行校準(zhǔn)的磁羅盤誤差；其中，x_m代表所述第一磁場數(shù)據(jù)中的第一維數(shù)據(jù)，y_m代表所述第一磁場數(shù)據(jù)中的第二維數(shù)據(jù)，z_m代表所述第一磁場數(shù)據(jù)中的第三維數(shù)據(jù)；g_x代表放縮參數(shù)的第一維數(shù)據(jù)，g_y代表所述放縮參數(shù)的第二維數(shù)據(jù)，g_z代表所述放縮參數(shù)的第三維數(shù)據(jù)；o_x代表平移參數(shù)的第一維數(shù)據(jù)，o_y代表所述平移參數(shù)的第二維數(shù)據(jù)，o_z代表所述平移參數(shù)的第三維數(shù)據(jù)；G為半徑參數(shù)，且G＝CR，C為常數(shù)，R為半徑單位；a為第一中間參數(shù)，b為第二中間參數(shù)，c為第三中間參數(shù)，d為第四中間參數(shù)，e為第五中間參數(shù)，f為第六中間參數(shù)，g為第七中間參數(shù)；V為根據(jù)采集的第一磁場數(shù)據(jù)或第二磁場數(shù)據(jù)構(gòu)建的第一陣列，P為構(gòu)建的第二陣列；μ代表磁羅盤誤差。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第一飛行姿態(tài)下沿第一平面上的第一方向采集多個(gè)第一磁場數(shù)據(jù)的步驟包括：

在所述第一飛行姿態(tài)下，控制機(jī)身在第一平面上沿預(yù)定的第一方向，按照預(yù)定角度轉(zhuǎn)動，直至所述機(jī)身回到初始位置，并采集轉(zhuǎn)動過程中每個(gè)對應(yīng)位置上的第一磁場數(shù)據(jù)。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第二飛行姿態(tài)下沿第二平面上的第二方向采集多個(gè)第二磁場數(shù)據(jù)的步驟包括：

在所述第二飛行姿態(tài)下，控制機(jī)身在第二平面上沿預(yù)定的第二方向，按照預(yù)定角度轉(zhuǎn)動，直至所述機(jī)身回到初始位置，并采集轉(zhuǎn)動過程中每個(gè)對應(yīng)位置上的第二磁場數(shù)據(jù)。

4.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述控制機(jī)身進(jìn)入第一飛行姿態(tài)的步驟包括：

控制所述機(jī)身的俯仰角大于-30度且小于30度；

控制所述機(jī)身的翻滾角大于-30度且小于30度。

5.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述控制機(jī)身進(jìn)入第二飛行姿態(tài)的步驟包括：

控制所述機(jī)身的俯仰角大于-30度且小于30度；

控制所述機(jī)身的翻滾角大于60度且小于90度。