[發(fā)明專利]一種半導(dǎo)體加工設(shè)備的液體流量校準(zhǔn)系統(tǒng)及校準(zhǔn)方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711225305.2 | 申請日: | 2017-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN107731720B | 公開(公告)日: | 2019-09-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉春威;周仁;劉建強(qiáng);王月;于棚 | 申請(專利權(quán))人: | 沈陽拓荊科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 沈陽維特專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 21229 | 代理人: | 陳福昌 |
| 地址: | 110179 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 半導(dǎo)體 加工 設(shè)備 液體 流量 校準(zhǔn) 系統(tǒng) 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體加工設(shè)備的液體流量校準(zhǔn)系統(tǒng)及校準(zhǔn)方法,其中,校準(zhǔn)系統(tǒng)包括:液體汽化器、反應(yīng)腔、壓力規(guī)和控制單元;校準(zhǔn)方法包括:校準(zhǔn)反應(yīng)腔的腔體環(huán)境;計算腔體穩(wěn)定壓力與液態(tài)源流量的關(guān)系因子R;重新校準(zhǔn)反應(yīng)腔的腔體環(huán)境,并核實關(guān)系因子。該半導(dǎo)體加工設(shè)備的液體流量校準(zhǔn)系統(tǒng)及校準(zhǔn)方法可實現(xiàn)現(xiàn)場校準(zhǔn),可靠性高,具有生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)價值。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別提供了一種半導(dǎo)體加工設(shè)備的液體流量校準(zhǔn)系統(tǒng)及校準(zhǔn)方法。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體加工設(shè)備使用的液體質(zhì)量流量計,在供應(yīng)商處出廠時會進(jìn)行校準(zhǔn),但出廠校準(zhǔn)范圍一般在±10%范圍內(nèi)。當(dāng)質(zhì)量流量計安裝在半導(dǎo)體加工設(shè)備上,并在現(xiàn)場使用一段時間后,如果出現(xiàn)流量偏差,返回供應(yīng)商處進(jìn)行校準(zhǔn)會影響當(dāng)前半導(dǎo)體加工設(shè)備的正常運(yùn)行。
因此,研制一種可現(xiàn)場使用的校準(zhǔn)系統(tǒng)及校準(zhǔn)方法,成為亟待解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種半導(dǎo)體加工設(shè)備的液體流量校準(zhǔn)系統(tǒng)及校準(zhǔn)方法,以解決現(xiàn)有校準(zhǔn)方法復(fù)雜、結(jié)果不準(zhǔn)確等問題。
本發(fā)明一方面提供了一種半導(dǎo)體加工設(shè)備的液體流量校準(zhǔn)系統(tǒng),包括:液體汽化器、反應(yīng)腔、壓力規(guī)和控制單元,其中,液體汽化器分別連接載氣輸入管路、液態(tài)源輸入管路、混合氣輸出主管路和混合氣輸出旁路,載氣輸入管路上設(shè)置氣體流量控制器,液態(tài)源輸入管路上設(shè)置有液體流量控制器,混合氣輸出主管路連接液體汽化器的出氣口和反應(yīng)腔的進(jìn)氣口,混合氣輸出主管路上設(shè)置有第一閥門,混合氣輸出旁路與外界連通且其上設(shè)置有第二閥門,反應(yīng)腔的出氣口經(jīng)出氣管路與外界連通,所述出氣管路上設(shè)置有TV閥,壓力規(guī)用于測量反應(yīng)腔內(nèi)的壓力,控制單元分別與氣體流量控制器、液體流量控制器、第一閥門、第二閥門、TV閥和壓力規(guī)連接,用于通過氣體流量控制器和液體流量控制器控制載氣和液態(tài)源的流量,通過第一閥門和第二閥門控制汽化后的氣體流向,通過壓力規(guī)獲得反應(yīng)腔的壓力,并通過調(diào)整TV閥的開度控制反應(yīng)腔內(nèi)的壓力。
本發(fā)明還提供了一種半導(dǎo)體加工設(shè)備的液體流量校準(zhǔn)方法,包括如下步驟:
S1:校準(zhǔn)反應(yīng)腔的腔體環(huán)境;
S2:按照預(yù)設(shè)的流量Q0向液體汽化器中通入液態(tài)源,液態(tài)源與載氣混合后經(jīng)混合氣輸出旁路輸出;
S3:待液態(tài)源與載氣的混合氣體汽化穩(wěn)定后,混合氣體經(jīng)混合氣輸出主管路通入反應(yīng)腔,測量穩(wěn)定壓力P0;
S4:液態(tài)源流量逐次增加ΔQ,測量每次的穩(wěn)定壓力Pi(i=1,2,3…),直至液態(tài)源流量達(dá)到終止流量;
S5:根據(jù)獲得的腔體穩(wěn)定壓力與液態(tài)源流量,計算關(guān)系因子R;
S6:重新校準(zhǔn)反應(yīng)腔的腔體環(huán)境,與S1設(shè)定的環(huán)境相同;
S7:按照流量Q0’=Q0*R/Re向液體汽化器中再次通入液態(tài)源,液態(tài)源與載氣混合后經(jīng)混合氣輸出旁路輸出,其中,R為S5中計算得到的關(guān)系因子,Re為反應(yīng)腔腔體穩(wěn)定壓力與液態(tài)源流量的關(guān)系因子的經(jīng)驗值;
S8:待液態(tài)源與載氣的混合氣體汽化穩(wěn)定后,混合氣體經(jīng)混合氣輸出主管路通入反應(yīng)腔,測量穩(wěn)定壓力P0’;
S9:液態(tài)源流量逐次增加ΔQ,測量每次的穩(wěn)定壓力Pi’(i=1,2,3…),直至液態(tài)源流量達(dá)到終止流量;
S10:根據(jù)S8和S9中獲得的腔體穩(wěn)定壓力與液態(tài)源流量,計算關(guān)系因子R’;
S11:比較R’與Re,如果兩者的偏差在預(yù)設(shè)的范圍內(nèi),則完成校準(zhǔn),否則重新執(zhí)行S1~S11,直至完成校準(zhǔn)。
優(yōu)選,步驟S5和S10中的關(guān)系因子通過最小二乘法計算。
進(jìn)一步優(yōu)選,在步驟S4和S9中,液態(tài)源的終止流量需保證混合氣體在反應(yīng)腔內(nèi)為非飽和狀態(tài)。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
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- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
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