[發明專利]補償膜和抗反射膜及顯示裝置

在審

• 申請號: 201711223473.8
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN108132492A
• 公開（公告）日: 2018-06-08
• 發明（設計）人: 金柱炫;崔玹碩;甘尚娥
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02B1/11
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 金擬粲

1.補償膜，滿足不等式1和2：

[不等式1]

其中，在不等式1中，

R_e(0°)為所述補償膜對于具有550nm的波長的入射光在與所述補償膜的光軸垂直的方向上的面內延遲，

R_e(θ°)和R_e(-θ°)為所述補償膜對于具有550nm的波長的入射光在相對于與所述補償膜的光軸垂直的方向的θ°和–θ°處的相應傾斜方向上的面內延遲，其中θ°范圍為10°-60°，和

R_e(θ°)和R_e(-θ°)彼此不同，

[不等式2]

R_e(450nm)<R_e(550nm)<R_e(650nm)

其中，在不等式2中，

R_e(450nm)為所述補償膜對于具有450納米的波長的入射光在與所述補償膜的光軸垂直的方向上的面內延遲，

R_e(550nm)為所述補償膜對于具有550納米的波長的入射光在與所述補償膜的光軸垂直的方向上的面內延遲，和

R_e(650納米)為所述補償膜對于具有650納米的波長的入射光在與所述補償膜的光軸垂直的方向上的面內延遲。

2.如權利要求1所述的補償膜，其中所述補償膜滿足不等式3：

[不等式3]

|R_e(θ°)-R_e(-θ°)|＞10nm

其中，在不等式3中，

R_e(θ°)和R_e(-θ°)為所述補償膜對于具有550納米的波長的入射光在相對于與所述補償膜的光軸垂直的方向的θ°和–θ°處的相應傾斜方向上的面內延遲，其中θ°范圍為10°-60°。

3.如權利要求1所述的補償膜，其中不等式1由不等式1a表示：

[不等式1a]

其中，在不等式1a中，

R_e(0°)為所述補償膜對于具有550納米的波長的入射光在與所述補償膜的光軸垂直的方向上的面內延遲，

R_e(θ°)和R_e(-θ°)為所述補償膜對于具有550納米的波長的入射光在相對于與所述補償膜的光軸垂直的方向的θ°和–θ°處的相應傾斜方向上的面內延遲，其中θ°范圍為10°-60°，和

R_e(θ°)和R_e(-θ°)彼此不同。

4.如權利要求1所述的補償膜，其中所述補償膜對于具有450納米和550納米的波長的光的面內延遲滿足不等式2a：

[不等式2a]

0.70≤R_e(450nm)/R_e(550nm)<1.00

其中，在不等式2a中，

R_e(450nm)為所述補償膜對于具有450納米的波長的入射光在與所述補償膜的光軸垂直的方向上的面內延遲，和

R_e(550nm)為所述補償膜對于具有550納米的波長的入射光在與所述補償膜的光軸垂直的方向上的面內延遲。

5.如權利要求4所述的補償膜，其中所述補償膜對于具有550納米和650納米的波長的光的面內延遲滿足不等式2b：

[不等式2b]

1.00<R_e(650nm)/R_e(550nm)≤1.50

其中，在不等式2b中，

R_e(550nm)為所述補償膜對于具有550納米的波長的入射光在與所述補償膜的光軸垂直的方向上的面內延遲，和

R_e(650nm)為所述補償膜對于具有650納米的波長的入射光在與所述補償膜的光軸垂直的方向上的面內延遲。

6.如權利要求1所述的補償膜，其中不等式1的θ°范圍為45°-60°。