[發明專利]一種熱釋光照射器在審
| 申請號: | 201711220344.3 | 申請日: | 2017-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN107884803A | 公開(公告)日: | 2018-04-06 |
| 發明(設計)人: | 陳潔;王婷婷;周亞坤 | 申請(專利權)人: | 中核控制系統工程有限公司 |
| 主分類號: | G01T1/11 | 分類號: | G01T1/11;G01T7/00 |
| 代理公司: | 核工業專利中心11007 | 代理人: | 張雅丁 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 熱釋光 照射 | ||
1.一種熱釋光照射器,內置標準輻射場起到標定劑量之用,對經過退火處理的熱釋光元件進行定量輻照,其特征在于:包括主體(1),圓盤(2),樣品盤(3),輻照源(4),步進電機(5),上蓋(6),顯示屏(7),鍵盤(8);
主體(1)為熱釋光照射器的整體外形結構;
圓盤(2)為由步進電機(5)控制的勻速轉動的金屬盤,圓盤(2)上有(3)(7)個等間距均勻分布的樣品盤(3),用于放置待輻照熱釋光劑量元件;
步進電機(5)在照射期間根據預設速度及計算出的轉數帶動圓盤(2)轉動以實現輻照;步進電機(5)轉動的同時反饋當前轉過的圈數,并將剩余待轉圈數顯示到顯示屏(7)上;當達到預設圈數時,步進電機(5)停止動作;
圓盤(2)的一側有固定位置的輻照源(4),輻照源(4)為已知標定活度的輻照標準源,在使用時根據當前使用日期計算其衰變活度,熱釋光劑量元件在熱釋光照射器的標準輻射場下進行定量照射時,熱釋光劑量元件均勻放置在轉動的圓盤上(2),讓熱釋光劑量元件通過輻照窗以獲得設定量的照射;
圓盤(2)下方有控制圓盤轉動的步進電機(5),圓盤上有上蓋(6),顯示屏(7),鍵盤(8);
上蓋(6)在在儀器不使用期間及使用時裝載完熱釋光劑量元件后蓋上;
顯示屏(7)用于顯示當前設定日期、所需照射量、總旋轉轉數及剩余轉數;
鍵盤(8)用于按鍵輸入,包括當前日期、待輻照劑量及控制儀器的開啟及暫停操作。
2.如權利要求1所述的一種熱釋光照射器,其特征在于:
應用該熱釋光照射器時,已知參數包括:標準源(4)的標定活度A0,熱釋光劑量元件與源之間的距離R,圓盤(2)旋轉的速度W;
儀器內部程序根據輸入日期自動計算出輻照源(4)的當前活度,結合其他已知參數,計算出熱釋光劑量元件輻照所需照射量為X時,圓盤(2)所要進行旋轉的轉數。
3.如權利要求2所述的一種熱釋光照射器,其特征在于:
熱釋光照射器內部程序根據輸入的開機日期和需要的照射量進行數據處理,先計算出照射源的活度,依照公式(1),根據需要的照射量Xi計算出每個元件需照射的時間t1;
依照公式(2),求出T;
T=B*n*t1公式(2)
根據T與預先設定的轉速W之間的物理函數關系,依照公式(3),求出總的旋轉周數N:
N=T/W公式(3)
式中:Xi為第i個熱釋光劑量元件的待照射量;
Γ為源照射轉換系數;
A0e-λt為適時活度,t為源從標定到測量之間的衰變時間;
T為總的照射時間;
B為考慮到樣品間隙而設置的修正系數;
n為圓盤(2)上均勻分布的樣品盤(3)的數量。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中核控制系統工程有限公司,未經中核控制系統工程有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711220344.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:放射源罐載監控裝置及其使用方法
- 下一篇:一種基于反符合技術的β測量裝置





