[發明專利]一種真空滅弧室及其觸頭屏蔽結構

有效

• 申請號: 201711218958.8
• 申請日: 2017-11-28
• 公開（公告）號: CN109841452B
• 公開（公告）日: 2022-08-19
• 發明（設計）人: 李小釗;薛從軍;尹偉婷;劉世柏;孫宇;翟莘;葛媛媛
• 申請（專利權）人: 天津平高智能電氣有限公司;平高集團有限公司;國家電網公司
• 主分類號: H01H33/662
• 分類號: H01H33/662;H01H33/664
• 代理公司: 鄭州睿信知識產權代理有限公司 41119
• 代理人: 陳浩

本發明涉及一種真空滅弧室及其觸頭屏蔽結構，觸頭屏蔽結構包括用于與絕緣外殼連接而構成殼體結構的靜蓋板，所述靜蓋板為桶狀的金屬屏蔽板，其上設置有靜導電桿固定結構，還包括用于固定在動導電桿上的屏蔽罩，所述屏蔽罩與所述靜蓋板共同圍設成用于將動觸頭和靜觸頭罩設在其內的屏蔽腔，所述屏蔽罩在跟隨動導電桿往復移動的過程中具有動觸頭與靜觸頭結合時的合閘屏蔽位和動觸頭與靜觸頭分離時的分閘屏蔽位，所述分離屏蔽位和合閘屏蔽位均處于靜蓋板內，大大節省了屏蔽罩的制造費用，也節省了金屬化瓷殼的成本，不需要額外的增加殼體上的主屏蔽罩的安裝尺寸，降低了真空滅弧室的整體成本，有利于真空滅弧室的小型化制造。

技術領域

本發明涉及一種真空滅弧室及其觸頭屏蔽結構。

背景技術

目前低電壓等級（40.5kV及以下）的真空滅弧室制造技術已經日漸成熟，真空滅弧室已經想著小型化經濟型方向發展。現有技術中真空滅弧室的觸頭屏蔽結構主要包括設置在殼體上的主屏蔽罩，靜導電桿上的觸頭和動導電桿上觸頭在屏蔽罩內實現分合，主屏蔽罩的設置能夠較好的實現對觸頭的屏蔽效果。目前主屏蔽罩與殼體的固定方式通常有瓷殼中間固定式與瓷殼一端偏置式，這樣的設置形式對于低電壓等級的滅弧室來說，其動觸頭和靜觸頭分合閘的過程中，主屏蔽罩上會產生中間電位，進而導致屏蔽性能下降的問題；同時，這種主屏蔽罩的設計形式需要占據殼體內部的直徑方向的相應尺寸，從而會影響滅弧室小型化結構的設計。

發明內容

本發明的目的在于提供一種真空滅弧室，以解決現有技術中的真空滅弧室的主屏蔽罩的設置影響滅弧室小型化設計的問題；本發明的目的還在于提供一種該真空滅弧室的觸頭屏蔽結構。

為實現上述目的，本發明觸頭屏蔽結構的技術方案是：

方案1：觸頭屏蔽結構，包括用于與絕緣外殼連接而構成殼體結構的靜蓋板，所述靜蓋板為桶狀的金屬屏蔽板，其上設置有靜導電桿固定結構，還包括用于固定在動導電桿上的屏蔽罩，所述屏蔽罩與所述靜蓋板共同圍設成用于將動觸頭和靜觸頭罩設在其內的屏蔽腔，所述屏蔽罩在跟隨動導電桿往復移動的過程中具有動觸頭與靜觸頭結合時的合閘屏蔽位和動觸頭與靜觸頭分離時的分閘屏蔽位，所述分離屏蔽位和合閘屏蔽位均處于靜蓋板內。

方案2：在方案1的基礎上，所述屏蔽罩包括屏蔽罩主體，所述屏蔽罩主體與所述靜蓋板的桶狀底部平行布置。

方案3：在方案2的基礎上，所述屏蔽罩還包括設置在屏蔽罩主體的外端的朝向靜蓋板的桶狀底部并與桶狀底部垂直的方向卷曲的卷曲部。

方案4：在方案1的基礎上，所述屏蔽罩具有用于與動導電桿焊接固定的焊接部。

本發明真空滅弧室的技術方案是：

方案5：真空滅弧室，包括殼體和設置在殼體內的動導電桿、靜導電桿，所述動導電桿上設置有動觸頭，靜導電桿上設有與動觸頭分合的靜觸頭，所述動觸頭和靜觸頭之間設有觸頭屏蔽結構，所述殼體包括絕緣外板，所述觸頭屏蔽結構包括與絕緣外殼連接而構成殼體的靜蓋板，所述靜蓋板為桶狀的金屬屏蔽板，所述靜導電桿固定在靜蓋板上，所述觸頭屏蔽結構還包括固定在導電桿上的屏蔽罩，所述屏蔽罩與所述靜蓋板共同圍設成屏蔽腔，所述動觸頭和靜觸頭均處于屏蔽腔內，所述屏蔽罩在跟隨動導電桿往復移動的過程中具有動觸頭與靜觸頭結合時的合閘屏蔽位和動觸頭與靜觸頭分離時的分閘屏蔽位，所述分離屏蔽位和合閘屏蔽位均處于靜蓋板內。

方案6：在方案5的基礎上，所述屏蔽罩包括屏蔽罩主體，所述屏蔽罩主體與所述靜蓋板的桶狀底部平行布置。

方案7：在方案6的基礎上，所述屏蔽罩還包括設置在屏蔽罩主體的外端的朝向靜蓋板的桶狀底部并與桶狀底部垂直的方向卷曲的卷曲部。

方案8：在方案5的基礎上，所述屏蔽罩與所述動導電桿之間焊接固定。

方案9：在方案5~8的任一項的基礎上，所述絕緣外板為金屬化瓷殼，其包括瓷殼，還包括燒結在瓷殼的兩端的金屬連接結構，所述金屬化瓷殼與所述靜蓋板焊接固定。