[發(fā)明專利]發(fā)光二極管有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711218871.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107819058B | 公開(公告)日: | 2019-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林文禹;葉孟欣;羅云明;曾建堯;張中英 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廈門三安光電有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/04 | 分類號(hào): | H01L33/04;H01L33/32 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 361100 福建省廈門市*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光二極管 | ||
1.發(fā)光二極管,依次包括: N型導(dǎo)通層、超晶格層、發(fā)光層、P型電子阻擋層和P型導(dǎo)通層,其特征在于:所述超晶格層位于所述N型導(dǎo)通層和發(fā)光層之間,其由周期結(jié)構(gòu)堆疊而成,其中至少一個(gè)周期結(jié)構(gòu)包含第一子層、第二子層和第三子層,其中所述第一子層的能隙Eg1、第二子層的能隙Eg2和第三子層的能隙Eg3的關(guān)系為Eg1<Eg2<Eg3,且第三子層的能隙Eg3大于所述電子阻擋層的能隙Eg4。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述發(fā)光層的發(fā)光波長(zhǎng)為360~420nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述發(fā)光二極管的熱冷態(tài)因子H/C為70%以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述超晶格層的每個(gè)周期結(jié)構(gòu)包含第一子層、第二子層和第三子層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述超晶格層的至少三個(gè)周期包括所述第一子層、所述第二子層和所述第三子層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述超晶格層包括至少一個(gè)第一種周期結(jié)構(gòu)和至少一個(gè)第二種周期結(jié)構(gòu),所述第一種周期結(jié)構(gòu)包含所述第一子層、所述第二子層和所述第三子層,所述第二種周期結(jié)構(gòu)包含第四子層和第五子層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述第四子層和第五子層的材料選自第一子層、第二子層和第三子層中的兩種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述超晶格層的至少一個(gè)周期結(jié)構(gòu)為InGaN/AlGaN/AlN、GaN/AlGaN/AlN或者InGaN/GaN/AlN。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述超晶格的周期結(jié)構(gòu)數(shù)為3~30。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述超晶格的總厚度為100~3000埃。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述第一子層、第二子層和第三子層的厚度分別為100埃以下。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述周期結(jié)構(gòu)為InGaN/AlGaN/AlN,其中第一子層InxGa1-xN的In組分X為0~20%,第二子層AlYGa1-YN的Al組分Y的取值范圍為0~30%。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述第二子層AlYGa1-YN的Al組分Y是漸變的,每次的變化梯度為1%~5%。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述發(fā)光層為InGaN/AlGaN多量子阱結(jié)構(gòu)。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于:所述超晶格層為非故意摻雜層。
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