[發明專利]一種均勻性噴霧傳動系統在審
| 申請號： | 201711217481.1 | 申請日： | 2017-11-28 |
| 公開（公告）號： | CN109832248A | 公開（公告）日： | 2019-06-04 |
| 發明（設計）人： | 石復習;石寶寶;劉世浩;蔣宗謹 | 申請（專利權）人： | 西北農林科技大學 |
| 主分類號： | A01M7/00 | 分類號： | A01M7/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 712100 陜*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 集霧槽 噴嘴 氣體流量計 氣源處理器 液體流量計 試驗底盤 單向閥 節流閥 均勻性 空壓機 雙流式 液泵 量筒 傳動系統 底架 噴霧 測量 | ||
【權利要求書】：
1.一種均勻性噴霧傳動系統，包括試驗底盤(1)、空壓機(2)、氣源處理器(3)、節流閥(4)、氣體流量計(5)、雙流式噴嘴(6)、V型集霧槽平臺(7)、集霧槽(8)、底架(9)、量筒(10)、液體流量計(11)、單向閥(12)、液泵(13)，其特征在于：所述空壓機(2)連接于試驗底盤(1)，所述氣源處理器(3)連接于空壓機(2)，所述節流閥(4)連接于氣源處理器(3)，所述氣體流量計(5)連接于節流閥(4)，所述液泵(13)連接于試驗底盤(1)，所述單向閥(12)連接于液泵(13)，所述液體流量計(11)連接于單向閥(12)，所述雙流式噴嘴(6)兩端分別連接于氣體流量計(5)和液體流量計(11)，所述V型集霧槽平臺(7)放置于雙流式噴嘴(6)的正下方，所述V型集霧槽平臺(7)包括集霧槽(8)、底架(9)和量筒(10)三部分。
2.根據權利要求1所述的一種均勻性噴霧傳動系統，其特征在于：所述噴霧傳動系統選擇了雙流式噴嘴(6)，可以更好的細化霧滴粒徑，提高噴霧質量。
3.根據權利要求1所述的一種均勻性噴霧傳動系統，其特征在于：所述V型集霧槽平臺(7)的搭建，在很大程度上間接反映噴霧均勻性的好處，有無重疊的問題，對噴嘴的布置有著至關重要的作用。
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