[發(fā)明專利]一種用于計(jì)算機(jī)斷層掃描成像系統(tǒng)的測(cè)試平臺(tái)及測(cè)試方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711216315.X
• 申請(qǐng)日: 2017-11-28
• 公開（公告）號(hào): CN108037145A
• 公開（公告）日: 2018-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡艷濤;李志華;崔志立;邢金輝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京納米維景科技有限公司
• 主分類號(hào): G01N23/046
• 分類號(hào): G01N23/046
• 代理公司: 北京汲智翼成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11381
• 代理人: 陳曦;董燁飛

1.一種用于計(jì)算機(jī)斷層掃描系統(tǒng)的測(cè)試平臺(tái)，其特征在于包括主控裝置、X射線源、載物臺(tái)、探測(cè)器及處理裝置；所述X射線源上設(shè)置有第一運(yùn)動(dòng)裝置、第二運(yùn)動(dòng)裝置，所述載物臺(tái)上設(shè)置有第三運(yùn)動(dòng)裝置、第四運(yùn)動(dòng)裝置,所述探測(cè)器上設(shè)置有第一位置調(diào)節(jié)裝置，所述X射線源、所述探測(cè)器、所述處理裝置、所述第一運(yùn)動(dòng)裝置、所述第二運(yùn)動(dòng)裝置、所述第三運(yùn)動(dòng)裝置、所述第四運(yùn)動(dòng)裝置分別與所述主控裝置連接；所述載物臺(tái)、所述探測(cè)器分別安裝在工作臺(tái)的導(dǎo)軌上，分別用于調(diào)整所述X射線源與所述探測(cè)器之間距離和所述射線源和被測(cè)物體之間的距離；

根據(jù)不同的所述X射線源與所述探測(cè)器組合，配置相應(yīng)的運(yùn)動(dòng)裝置的運(yùn)動(dòng)參數(shù)，實(shí)現(xiàn)所述被測(cè)物體分別在正射線和斜射線條件下的軸掃斷層圖像與螺旋掃斷層圖像。

2.如權(quán)利要求1所述的用于計(jì)算機(jī)斷層掃描系統(tǒng)的測(cè)試平臺(tái)，其特征在于：

所述第一運(yùn)動(dòng)裝置包括第一電機(jī)、俯仰轉(zhuǎn)臺(tái)及第一旋轉(zhuǎn)編碼器，所述俯仰轉(zhuǎn)臺(tái)通過第一聯(lián)軸器與所述第一電機(jī)連接，所述俯仰轉(zhuǎn)臺(tái)與所述X射線源連接；

所述第二運(yùn)動(dòng)裝置包括第二電機(jī)、第一升降傳動(dòng)機(jī)構(gòu)及第一位移傳感器，所述第一升降傳動(dòng)機(jī)構(gòu)通過第二聯(lián)軸器與所述第二電機(jī)連接，所述第一升降傳動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述X射線源連接；

所述第三運(yùn)動(dòng)裝置包括第三電機(jī)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)及第二旋轉(zhuǎn)編碼器，所述第三電機(jī)通過第三聯(lián)軸器與所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)連接，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述載物臺(tái)連接，通過所述第三電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述載物臺(tái)旋轉(zhuǎn)；

所述第四運(yùn)動(dòng)裝置包括第四電機(jī)、第二升降傳動(dòng)機(jī)構(gòu)及第二位移傳感器，所述第二升降傳動(dòng)機(jī)構(gòu)通過第四聯(lián)軸器與所述第四電機(jī)連接，所述第二升降傳動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述載物臺(tái)連接。

3.如權(quán)利要求2所述的用于計(jì)算機(jī)斷層掃描系統(tǒng)的測(cè)試平臺(tái)，其特征在于：

所述載物臺(tái)上還分別設(shè)置有第二位置調(diào)節(jié)裝置和第三位置調(diào)節(jié)裝置，所述第二位置調(diào)節(jié)裝置采用螺釘，通過調(diào)整所述螺釘調(diào)整所述載物臺(tái)的水平度。

4.如權(quán)利要求3所述的用于計(jì)算機(jī)斷層掃描系統(tǒng)的測(cè)試平臺(tái)，其特征在于：

所述第三位置調(diào)節(jié)裝置采用墊板，所述墊板用于配合所述第四運(yùn)動(dòng)裝置使所述被測(cè)物體與所述X射線源同一高度。

5.如權(quán)利要求2所述的用于計(jì)算機(jī)斷層掃描系統(tǒng)的測(cè)試平臺(tái)，其特征在于：

所述主控裝置為主控制器，所述主控制器設(shè)置有第一運(yùn)動(dòng)控制器、第二運(yùn)動(dòng)控制器、第三運(yùn)動(dòng)控制器、第四運(yùn)動(dòng)控制器，所述第一運(yùn)動(dòng)控制器與所述第一電機(jī)連接，所述第二運(yùn)動(dòng)控制器與所述第二電機(jī)連接，所述第三運(yùn)動(dòng)控制器與所述第三電機(jī)連接，所述第四運(yùn)動(dòng)控制器與所述第四電機(jī)連接；主控制器分別與所述X射線源、所述探測(cè)器、處理裝置、所述第一旋轉(zhuǎn)編碼器、所述第一位移傳感器、所述第二旋轉(zhuǎn)編碼器及所述第二位移傳感器連接。

6.一種用于計(jì)算機(jī)斷層掃描系統(tǒng)的測(cè)試方法，基于權(quán)利要求1～5中任意一項(xiàng)所述的測(cè)試平臺(tái)實(shí)現(xiàn)，其特征在于包括如下步驟：

步驟S1：根據(jù)所需獲取的被測(cè)物體的斷層圖像類型，調(diào)整SID值和SOD值；

步驟S2：根據(jù)SID值和SOD值，調(diào)整X射線源的中心線對(duì)準(zhǔn)探測(cè)器的中心位置；

步驟S3：根據(jù)所需獲取的被測(cè)物體的斷層圖像類型，調(diào)整載物臺(tái)上被測(cè)物體的掃描位置；

步驟S4：設(shè)定X射線源的曝光參數(shù)后啟動(dòng)曝光，同時(shí)控制載物臺(tái)上的運(yùn)動(dòng)裝置動(dòng)作，獲取被測(cè)物體的軸掃斷層圖像與螺旋掃斷層圖像。

7.如權(quán)利要求6所述的用于計(jì)算機(jī)斷層掃描系統(tǒng)的測(cè)試方法，其特征在于：

步驟S1中，通過沿導(dǎo)軌移動(dòng)載物臺(tái)和探測(cè)器，調(diào)整SID值和SOD值。