[發(fā)明專利]區(qū)域輪廓繪制方法及裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711214737.3
• 申請日: 2017-11-28
• 公開（公告）號: CN108008409B
• 公開（公告）日: 2019-12-10
• 發(fā)明（設計）人: 楊勇;李崇國;吳澤曉;鄭志帆
• 申請（專利權）人: 深圳市杉川機器人有限公司
• 主分類號: G01S17/89
• 分類號: G01S17/89;G01S17/93;G01S17/02
• 代理公司: 11371 北京超凡志成知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 蘇勝

1.一種區(qū)域輪廓繪制方法，其特征在于，所述方法包括：

根據(jù)第一預定算法對原始區(qū)域輪廓圖進行更新，獲得第一區(qū)域輪廓圖；

根據(jù)第二預定算法對所述原始區(qū)域輪廓圖進行更新，獲得第二區(qū)域輪廓圖；

獲取并處理激光雷達獲得的第一距離數(shù)據(jù)，生成第一待匹配輪廓圖；

將所述第一待匹配輪廓圖分別與所述第一區(qū)域輪廓圖以及第二區(qū)域輪廓圖進行比較；

若所述第一區(qū)域輪廓圖與第一待匹配輪廓圖的相似度高于所述第二區(qū)域輪廓圖與第一待匹配輪廓圖的相似度，則以所述第一區(qū)域輪廓圖替換所述第二區(qū)域輪廓圖；

其中，所述根據(jù)第一預定算法對原始區(qū)域輪廓圖進行更新，獲得第一區(qū)域輪廓圖，包括：

獲取并處理所述激光雷達獲得的第二距離數(shù)據(jù)，生成第二待匹配輪廓圖；

將所述第二待匹配輪廓圖與所述原始區(qū)域輪廓圖進行比較，判斷所述第二待匹配輪廓圖中與所述原始區(qū)域輪廓圖相對應的位置是否包含有未出現(xiàn)在所述原始區(qū)域輪廓圖中的障礙物；

若是，判斷所述障礙物的尺寸是否超過預設尺寸；

若是，則將所述原始區(qū)域輪廓圖作為所述第一區(qū)域輪廓圖；

若否，則以所述第二待匹配輪廓圖替換所述原始區(qū)域輪廓圖中相對應的位置，并將其作為所述第一區(qū)域輪廓圖；

所述根據(jù)第二預定算法對所述原始區(qū)域輪廓圖進行更新，獲得第二區(qū)域輪廓圖，包括：

獲取并處理所述激光雷達獲得的第三距離數(shù)據(jù)，生成第三待匹配輪廓圖；

以所述第三待匹配輪廓圖替換所述原始區(qū)域輪廓圖中相對應的位置，并將其作為所述第二區(qū)域輪廓圖。

2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

若所述第一區(qū)域輪廓圖與第一待匹配輪廓圖的相似度低于所述第二區(qū)域輪廓圖與第一待匹配輪廓圖的相似度，則保留所述第二區(qū)域輪廓圖。

3.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

判斷是否存在所述原始區(qū)域輪廓圖；

若是，則執(zhí)行步驟“根據(jù)第一預定算法對原始區(qū)域輪廓圖進行更新，獲得第一區(qū)域輪廓圖”。

4.根據(jù)權利要求3所述的方法，其特征在于，所述判斷是否存在所述原始區(qū)域輪廓圖之后，所述方法還包括：

若不存在所述原始區(qū)域輪廓圖，獲取并處理激光雷達獲得的第四距離數(shù)據(jù)，生成第四區(qū)域輪廓圖；

根據(jù)所述第四區(qū)域輪廓圖獲得所述原始區(qū)域輪廓圖。

5.一種區(qū)域輪廓繪制裝置，其特征在于，所述裝置包括：

第一區(qū)域輪廓模塊，用于根據(jù)第一預定算法對原始區(qū)域輪廓圖進行更新，獲得第一區(qū)域輪廓圖；

第二區(qū)域輪廓模塊，用于根據(jù)第二預定算法對所述原始區(qū)域輪廓圖進行更新，獲得第二區(qū)域輪廓圖；

待匹配輪廓模塊，用于獲取并處理激光雷達獲得的第一距離數(shù)據(jù)，生成第一待匹配輪廓圖；

比較模塊，用于將所述第一待匹配輪廓圖分別與所述第一區(qū)域輪廓圖以及第二區(qū)域輪廓圖進行比較；

輪廓替換模塊，用于若所述第一區(qū)域輪廓圖與第一待匹配輪廓圖的相似度高于所述第二區(qū)域輪廓圖與第一待匹配輪廓圖的相似度，則以所述第一區(qū)域輪廓圖替換所述第二區(qū)域輪廓圖；

其中，所述第一區(qū)域輪廓模塊包括：

第一距離數(shù)據(jù)子模塊，用于獲取并處理所述激光雷達獲得的第二距離數(shù)據(jù)，生成第二待匹配輪廓圖；

障礙物判斷子模塊，用于將所述第二待匹配輪廓圖與所述原始區(qū)域輪廓圖進行比較，判斷所述第二待匹配輪廓圖中與所述原始區(qū)域輪廓圖相對應的位置是否包含有未出現(xiàn)在所述原始區(qū)域輪廓圖中的障礙物；

預設尺寸子模塊，用于判斷所述障礙物的尺寸是否超過預設尺寸；

第一選項子模塊，用于將所述原始區(qū)域輪廓圖作為所述第一區(qū)域輪廓圖；

第二選項子模塊，用于以所述第二待匹配輪廓圖替換所述原始區(qū)域輪廓圖中相對應的位置，并將其作為所述第一區(qū)域輪廓圖；

所述第二區(qū)域輪廓模塊包括：

第二距離數(shù)據(jù)子模塊，獲取并處理所述激光雷達獲得的第三距離數(shù)據(jù)，生成第三待匹配輪廓圖；

第二輪廓獲取子模塊，用于以所述第三待匹配輪廓圖替換所述原始區(qū)域輪廓圖中相對應的位置，并將其作為所述第二區(qū)域輪廓圖。