[發(fā)明專利]一種陣列基板及其制備方法、顯示面板和顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711214162.5
• 申請日: 2017-11-28
• 公開（公告）號: CN107946320B
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李巖鋒;于亞楠;徐敬義;趙欣;王曉康;任艷偉;李偉
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L21/84
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11319
• 代理人: 莎日娜

本申請?zhí)峁┝艘环N陣列基板的制備方法、陣列基板、顯示面板和顯示裝置，以減少工藝過程中出現(xiàn)open等不良，提高良率；所述陣列基板包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域，在非顯示區(qū)域，所述陣列基板包括基板以及設(shè)置在所述基板上的冗余數(shù)據(jù)線和有效數(shù)據(jù)線，所述冗余數(shù)據(jù)線的寬度大于所述有效數(shù)據(jù)線的寬度；通過在邊緣設(shè)置較寬的冗余數(shù)據(jù)線來吸收曝光、刻蝕工藝過程中在邊緣產(chǎn)生的多余能量或粒子，從而有效地保護(hù)邊緣的冗余數(shù)據(jù)線和有效數(shù)據(jù)線不會曝光過量或過刻，減少工藝過程中出現(xiàn)open等不良，提高良率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示面板技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種陣列基板的制備方法、陣列基板、顯示面板和顯示裝置。

背景技術(shù)

窄邊框顯示屏因其簡潔、美觀、相同尺寸可視面積大等優(yōu)點(diǎn)，已成為高品質(zhì)顯示屏的主要發(fā)展趨勢，然而隨著產(chǎn)品邊框逐漸變窄，要求在TFT基板上布線更細(xì)且更密。當(dāng)窄邊框產(chǎn)品在SD數(shù)據(jù)線層進(jìn)行布線時，fanout布線區(qū)數(shù)據(jù)線的CD關(guān)鍵尺寸或者Space間距均較小，在工藝過程中很容易出現(xiàn)線路弱連接甚至斷開的情況，極易發(fā)生Open斷路等不良，進(jìn)而造成一定的良率損失。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種陣列基板的制備方法、陣列基板、顯示面板和顯示裝置，以減少工藝過程中出現(xiàn)open等不良，提高良率。

為了解決上述問題，本發(fā)明公開了一種陣列基板，所述陣列基板包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域，所述非顯示區(qū)域的陣列基板包括：基板，以及設(shè)置在所述基板上的冗余數(shù)據(jù)線和有效數(shù)據(jù)線，所述冗余數(shù)據(jù)線的寬度大于所述有效數(shù)據(jù)線的寬度。

優(yōu)選地，所述冗余數(shù)據(jù)線為網(wǎng)格狀。

優(yōu)選地，所述冗余數(shù)據(jù)線的寬度與所述有效數(shù)據(jù)線的寬度之差大于0.5μm且小于或等于68μm。

優(yōu)選地，所述冗余數(shù)據(jù)線的寬度大于2.5μm且小于或等于70μm。

優(yōu)選地，所述冗余數(shù)據(jù)線的寬度大于10μm且小于或等于20μm。

優(yōu)選地，所述冗余數(shù)據(jù)線或所述有效數(shù)據(jù)線的材料至少為下列之一：Mo、Al、Ti、Au、Cu、Hf、Ta。

優(yōu)選地，還包括：設(shè)置在所述冗余數(shù)據(jù)線和所述有效數(shù)據(jù)線上的平坦層。

為了解決上述問題，本發(fā)明還公開了一種顯示面板，包括上述任一項(xiàng)所述的陣列基板。

為了解決上述問題，本發(fā)明還公開了一種顯示裝置，包括上述的顯示面板。

為了解決上述問題，本發(fā)明還公開了一種陣列基板的制備方法，所述陣列基板包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域，所述非顯示區(qū)域的陣列基板的制備方法，包括：

提供基板；

在所述基板上形成冗余數(shù)據(jù)線和有效數(shù)據(jù)線，所述冗余數(shù)據(jù)線的寬度大于所述有效數(shù)據(jù)線的寬度。

優(yōu)選地，所述冗余數(shù)據(jù)線為網(wǎng)格狀。

優(yōu)選地，所述冗余數(shù)據(jù)線的寬度與所述有效數(shù)據(jù)線的寬度之差大于0.5μm且小于或等于68μm。

優(yōu)選地，所述冗余數(shù)據(jù)線的寬度大于2.5μm且小于或等于70μm。

優(yōu)選地，所述冗余數(shù)據(jù)線的寬度大于10μm且小于或等于20μm。

優(yōu)選地，還包括：在所述冗余數(shù)據(jù)線和所述有效數(shù)據(jù)線上形成平坦層。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明包括以下優(yōu)點(diǎn)：