[發明專利]用于對成像設備進行建模的方法和計算機可讀存儲介質有效
| 申請號： | 201711214075.X | 申請日： | 2017-11-28 |
| 公開（公告）號： | CN108174179B | 公開（公告）日： | 2021-06-01 |
| 發明（設計）人： | 沃特爾·德拉茨克;勞倫·布朗德;保羅·克爾比里歐;奧利維爾·布瑞勒爾;紀堯姆·波伊森 | 申請（專利權）人： | 交互數字CE專利控股公司 |
| 主分類號： | H04N13/239 | 分類號： | H04N13/239;H04N13/246;H04N13/275 |
| 代理公司： | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人： | 宗曉斌 |
| 地址： | 法國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 成像 設備 進行 建模 方法 計算機 可讀 存儲 介質 | ||
1.一種用于對成像設備進行建模的方法，該成像設備包括圖像傳感器(20)和光學系統(10)，所述圖像傳感器被布置在所述光學系統的像面中，所述光學系統包括限定所述光學系統的入瞳的孔徑光闌，其中，針對所述成像設備的給定配置，所述方法包括：
獲得(21)所述成像設備的特征特性參數的集合，包括：
表示所述像面與相對于所述光學系統與所述圖像傳感器共軛的傳感器共軛平面之間的距離的第一特性參數；
表示所述傳感器共軛平面與所述入瞳之間的距離的第二特性參數；
表示所述光學系統的放大率的第三特性參數；
確定(22)作為所述第一和第三特性參數的函數的第一建模數據；
確定(22)作為所述第二和第三特性參數的函數的第二建模數據；以及
基于作為所述第一和第二建模數據的函數獲得的所述成像設備的模型，至少映射至少與所述圖像傳感器(20)上的像點相關聯的3D點。
2.如權利要求1所述的方法，其中，所述第一建模數據包括被限定在所述像面與布置于所述成像設備的光軸上的第一不變投影點之間的第一不變距離Px，所述第一不變距離Px滿足以下公式：
其中，Z是所述像面與所述傳感器共軛平面之間的距離；并且M是所述光學系統的放大率。
3.如權利要求1所述的方法，其中，所述第二建模數據是被限定在所述像面與位于所述成像設備的光軸上的第二不變投影點之間的第二不變距離Pα，所述第二不變距離Pα滿足以下公式：
其中，D是所述傳感器共軛平面與所述入瞳之間的距離；并且M是所述光學系統的放大率。
4.如權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，所述第二特性參數通過校準被估計。
5.如權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，所述第二特性參數被估計作為所述特征特性參數的集合中的第四特性參數和所述第一特性參數的函數，所述第四特性參數表示所述像面與所述入瞳之間的距離。
6.如權利要求2至3中任一項所述的方法，其中，所述特征特性參數的集合還包括表示所述光軸相對于所述像面的位置的第五特性參數。
7.如權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，所述特征特性參數的集合還包括表示所述入瞳的尺寸的第六參數。
8.如權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，所述成像設備的給定配置包括屬于包括以下各項的群組的設置：焦點的設置、所述光學系統的主平面與所述像面之間的距離的設置。
9.如權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，使用所述成像設備的模型確定被所述成像設備成像的場景的度量信息。
10.一種計算機可讀存儲介質，存儲有指令，所述指令用于實現根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中所述指令在計算機或處理器上被執行。
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