[發(fā)明專利]一種類陶瓷式蓋板及其制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711211797.X | 申請日： | 2017-11-28 |
| 公開（公告）號： | CN107834004A | 公開（公告）日： | 2018-03-23 |
| 發(fā)明（設計）人： | 楊鵬;周偉杰 | 申請（專利權）人： | 信利光電股份有限公司 |
| 主分類號： | H01M2/10 | 分類號： | H01M2/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司11227 | 代理人： | 羅滿 |
| 地址： | 516600 廣東省汕*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 種類 陶瓷 蓋板 及其 制作方法 | ||
1.一種類陶瓷式蓋板，其特征在于，包括基板，所述基板的第一表面依次設置有光學膜層和類金剛石膜層，所述基板的第二表面設置有油墨層，所述光學膜層包括由至少兩種氧化物膜交替疊加形成的至少三層膜，其中，至少兩種所述氧化物膜之間的折射率差值不小于0.3。
2.根據(jù)權利要求1所述的類陶瓷式蓋板，其特征在于，所述至少兩種氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化鈦膜或氧化鈮膜。
3.根據(jù)權利要求2所述的類陶瓷式蓋板，其特征在于，所述光學膜層包括三層至五層膜。
4.根據(jù)權利要求1所述的類陶瓷式蓋板，其特征在于，所述至少兩種氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化鈦膜。
5.根據(jù)權利要求4所述的類陶瓷式蓋板，其特征在于，所述光學膜層包括三層膜，其中第一層為厚度為20nm的二氧化硅膜，第二層為厚度為10nm至80nm的氧化鈦膜，第三層為厚度為10nm至80nm的二氧化硅膜。
6.一種類陶瓷式蓋板的制作方法，其特征在于，包括：
利用真空鍍膜方式在基板的第一表面制作光學膜層和類金剛石膜層，所述光學膜層包括由至少兩種氧化物膜交替疊加形成的至少三層膜，其中，至少兩種所述氧化物膜之間的折射率差值不小于0.3；
在所述基板的第二表面制作油墨層。
7.根據(jù)權利要求6所述的類陶瓷式蓋板的制作方法，其特征在于，所述至少兩種氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化鈦膜或氧化鈮膜。
8.根據(jù)權利要求7所述的類陶瓷式蓋板的制作方法，其特征在于，所述光學膜層包括三層至五層膜。
9.根據(jù)權利要求6所述的類陶瓷式蓋板的制作方法，其特征在于，所述至少兩種氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化鈦膜。
10.根據(jù)權利要求9所述的類陶瓷式蓋板的制作方法，其特征在于，所述光學膜層包括三層膜，其中第一層為厚度為20nm的二氧化硅膜，第二層為厚度為10nm至80nm的氧化鈦膜，第三層為厚度為10nm至80nm的二氧化硅膜。
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