[發明專利]一種新型拋光抑制劑及其制備方法在審
| 申請號: | 201711208734.9 | 申請日: | 2017-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN109836123A | 公開(公告)日: | 2019-06-04 |
| 發明(設計)人: | 韓璐 | 申請(專利權)人: | 韓璐 |
| 主分類號: | C04B33/13 | 分類號: | C04B33/13;C04B33/132;C04B35/14;C04B35/622;C04B35/63 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陶瓷磚 抑制劑 拋光廢渣 二氧化硅 拋光抑制 氧化鋁 制備 致密 陶瓷磚坯體 質量百分比 資源化利用 碳酸鈣 廢渣廢料 高溫燒結 工藝實施 降低生產 排放污染 陶瓷制品 原料成本 制備工藝 混合料 操控 公知 黃臘 坯體 成型 平整 生產 | ||
一種新型拋光抑制劑及其制備方法,所述抑制劑為二氧化硅和氧化鋁的至少一種;所述抑制劑中含有黃臘石和碳酸鈣的至少一種;首先按質量百分比計,將10~20%的抑制劑、10~20%陶瓷磚拋光廢渣和60~70%的公知陶瓷磚坯體原料進行混合;然后將混合料成型制成坯體;最后將其高溫燒結,獲得平整致密的陶瓷制品;本發明采用了二氧化硅和氧化鋁作為抑制劑,具有抑制效率高、易于控制和適應范圍廣的特點;解決陶瓷磚拋光廢渣生產陶瓷磚的工藝實施和控制難度高的問題;實現陶瓷磚拋光廢渣的高效的資源化利用,提高陶瓷磚的結構和外觀質量,降低生產的原料成本,利用率高、減少廢渣廢料的排放污染,制備工藝簡單、易于操控、適用性廣、便于實施和推廣。
技術領域
本發明涉及建筑陶瓷技術領域,尤其涉及一種新型拋光抑制劑及其制備方法。
背景技術
現有技術將未接觸過拋光磨塊的拋光廢渣以一定的比例加入常規粉料中,用于生產瓷質拋光磚;而最難處理的是接觸過拋光磨塊的拋光廢渣,現有對接觸過拋光磨塊的拋光廢渣有兩種處理方法:一種是利用接觸過拋光磨塊的拋光廢渣的高溫發泡性能來生產呼吸磚、泡沫陶板、透水磚、空心陶瓷板、輕質磚、多孔陶粒、洞石等產品;另一種是把接觸過拋光磨塊的拋光廢渣以一定比例加入常規粉料中,用于生產瓷質磚,主要需要解決接觸過拋光磨塊的拋光廢渣中碳化硅高溫發泡問題。廣東宏陶陶瓷有限公司專利(公布號CN102617123)《利用拋光廢渣制造瓷磚坯體和釉面磚的配方及方法》公開一種利用拋光廢渣制造瓷磚坯體和釉面磚配方及方法,采用特定的溫度下保溫、延長燒成時間、增加氧化氣氛等手段以保證陶瓷拋光廢渣的氣體排放,克服因陶瓷拋光廢渣在高溫下因排放的氣體過多而使產品發泡的缺點,但仍然存在工藝較為復雜,既需要調整配方,又需要改變窯爐原有的燒成制度和燒成氣氛,工藝實施和控制的難度大,普適性低,不易于進行推廣的缺陷。
發明內容
本發明的目的在于提出一種新型拋光抑制劑。
本發明的另一個目的在于提出一種新型拋光抑制劑及其制備方法。
為達此目的,本發明采用以下技術方案:
一種新型拋光抑制劑及其制備方法,所述抑制劑為二氧化硅和氫氧化鋁的至少一種。
進一步說明,所述抑制劑為二氧化硅∶氧化鋁=2~4∶1的混合物。
進一步說明,所述抑制劑中含有黃臘石和碳酸鈣的至少一種。
一種抑制陶瓷磚拋光污泥高溫燒結發泡的方法,首先按質量百分比計,將10~20%的抑制劑、10~20%陶瓷磚拋光廢渣和60~70%的公知陶瓷磚坯體原料進行混合;然后將混合料成型制成坯體;最后將其高溫燒結,獲得平整致密的陶瓷制品。
進一步說明,所述陶瓷磚坯體原料包括粘土類原料、砂石類原料和滑石;所述粘土類原料為高嶺土、伊利石、膨潤土、A級黑泥、佛岡黑泥和花都黑泥中一種或多種組合;所述砂石類原料為龍山鉀砂、陽江鋁鉀砂、貴廣高鋁鉀鈉砂、富港鈉砂、高鋁鉀砂和廣西鉀砂中一種或多種組合。
進一步說明,所述混合料制成坯體之前還包括球磨、除鐵和噴霧干燥工序,獲得顆粒粉料;所述球磨細度為350目篩余0.5~1%。
進一步說明,所述高溫燒結的燒成溫度為1190~1220℃。
進一步說明,所述坯體在高溫燒結之前還包括拋坯工序。
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