[發(fā)明專利]劃痕檢測方法、裝置和電子設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711207535.6
• 申請日: 2017-11-27
• 公開（公告）號: CN107993223A
• 公開（公告）日: 2018-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 班永杰;陳茁;王劍龍;劉文文;閆秀英;劉金玉;馬立
• 申請（專利權(quán)）人: 歌爾股份有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06K9/00
• 代理公司: 北京太合九思知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11610
• 代理人: 劉戈

1.一種劃痕檢測方法，其特征在于，包括：

獲取待檢測工件的原始圖像以及與所述待檢測工件對應(yīng)的二值化閾值；

根據(jù)所述二值化閾值對所述原始圖像進行二值化處理；

對二值化處理后的圖像進行骨架提取處理；

確定骨架提取處理后的圖像中是否含有劃痕。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述對二值化處理后的圖像進行骨架提取處理，包括：

根據(jù)以下公式對所述二值化處理后的圖像進行骨架提取處理：

S(A)=∪k=0KSk(A),]]>

其中，A為所述二值化處理后的圖像所對應(yīng)的像素矩陣，S(A)為所述骨架提取處理后的圖像所對應(yīng)的像素矩陣；Θ為腐蝕運算符，為開運算的運算符；k為腐蝕次數(shù)變量；B為用于腐蝕、開運算處理的結(jié)構(gòu)元素矩陣；K為將所述二值化處理后的圖像所對應(yīng)的像素矩陣腐蝕為空集時的腐蝕次數(shù)，∪為并集運算符。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述結(jié)構(gòu)元素矩陣B中預(yù)設(shè)二值化值的位置分布呈現(xiàn)L型或十字型。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，所述確定骨架提取處理后的圖像中是否含有劃痕，包括：

確定所述骨架提取處理后的圖像中是否存在預(yù)設(shè)二值化值所對應(yīng)的連續(xù)區(qū)域；

若存在所述連續(xù)區(qū)域并且所述連續(xù)區(qū)域的尺寸大于預(yù)設(shè)值，則確定所述骨架提取處理后的圖像中有劃痕；

若不存在所述連續(xù)區(qū)域，則確定所述骨架提取處理后的圖像中無劃痕。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，所述獲取與所述待檢測工件對應(yīng)的二值化閾值，包括：

將所述原始圖像轉(zhuǎn)為灰度圖像；

分別針對所述灰度圖像中的任一灰度值，計算小于所述任一灰度值的第一類像素點的灰度均值和方差，以及計算大于所述任一灰度值的第二類像素點的灰度均值和方差；

根據(jù)所述第一類像素點的數(shù)量、第二類像素點的數(shù)量以及所述灰度圖像中像素的總數(shù)量，分別計算所述第一類像素點和所述第二類像素點的概率分布；

根據(jù)如下函數(shù)計算所述任一灰度值對應(yīng)的閾值參量：

其中，0<λ<1，ψ為所述任一灰度值的閾值參量，μ₁為所述第一類像素點的灰度均值，μ₂為所述第二類像素點的灰度均值，σ₁²為所述第一類像素點的方差，σ₂²為所述第二類像素點的方差，p₁為所述第一類像素點的概率分布，p₂為所述第二類像素點的概率分布；

確定各灰度值的閾值參量中最大值對應(yīng)的灰度值為所述二值化閾值。

6.一種劃痕檢測裝置，其特征在于，包括：

獲取模塊，用于獲取待檢測工件的原始圖像以及與所述待檢測工件對應(yīng)的二值化閾值；

第一處理模塊，用于根據(jù)所述二值化閾值對所述原始圖像進行二值化處理；

第二處理模塊，用于對二值化處理后的圖像進行骨架提取處理；

確定模塊，用于確定骨架提取處理后的圖像中是否含有劃痕。

7.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括存儲器和處理器；其中，

所述存儲器用于存儲一條或多條計算機指令，其中，所述一條或多條計算機指令被所述處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至5中任一項所述的劃痕檢測方法。

8.一種存儲有計算機程序的計算機可讀存儲介質(zhì)，其特征在于，所述計算機程序使計算機執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至5中任一項所述的劃痕檢測方法。