[發(fā)明專利]一種帶有清洗機構的拋光裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711204742.6 | 申請日: | 2017-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN107813215A | 公開(公告)日: | 2018-03-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 顧龍元;方國士;繆惠明 | 申請(專利權)人: | 蘇州市潤達機械制造有限公司 |
| 主分類號: | B24B29/04 | 分類號: | B24B29/04;B24B41/06;B24B47/20;B24B55/06 |
| 代理公司: | 蘇州銘浩知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙)32246 | 代理人: | 朱斌兵 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 帶有 清洗 機構 拋光 裝置 | ||
1.一種帶有清洗機構的拋光裝置,其特征在于:包括基座、左定位塊、右定位塊、電機座、電機、左圓柱塊、固定筒、氣缸架、伸縮氣缸、電磁鐵塊、基板、拋光組件和清洗機構;所述基座上設有左定位塊和右定位塊;所述左定位塊和右定位塊上分別開有左定位孔和右定位孔,且上述兩個定位孔位于同一軸心線上;所述左定位塊的一側設有位于電機座上的電機;所述電機的轉軸一側設有位于左定位孔內的左圓柱塊,且左圓柱塊內開有容納電機軸的容納槽;所述右定位孔內設有固定筒,上述固定筒的內徑與電機軸的直徑相同;所述左圓柱塊和固定筒的材質均為電磁鐵;所述右定位塊一側設有位于氣缸架上的伸縮氣缸;所述伸縮氣缸的伸縮桿上設有位于固定筒內的電磁鐵塊;所述左定位塊和右定位塊之間設有可滑動的基板;所述基板上設有可上下升降的拋光組件;所述右定位塊和氣缸架之間還設有清洗機構,用于對拋光后的電機軸進行清洗。
2.根據(jù)權利要求1所述的帶有清洗機構的拋光裝置,其特征在于:所述清洗機構包括兩個沖洗組件、筒管、出氣管、圓形管道、出氣裝置和加熱管;兩個所述沖洗組件相對設置在電磁鐵塊的兩側;所述沖洗組件包括縱向滑軌、支座、承載板、海綿和出水組件;所述縱向滑軌上端依次設有支座和承載板;所述承載板上設有相對設置的兩個呈半圓弧形的海綿;兩個所述海綿之間設有出水組件,上述出水組件由多個上下設置的出水管組成;所述筒管位于沖洗組件一側;所述筒管上沿其圓周方向分布有多個出氣管,上述出氣管的一端對準筒管內,另一端通過圓形管道相連;所述圓形管道與出氣裝置相連;所述筒管內壁上位于出氣管一側設有多個圓形狀的加熱管。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的帶有清洗機構的拋光裝置,其特征在于:所述拋光組件由拋光輪和拋光電機構成。
4.根據(jù)權利要求1或2所述的帶有清洗機構的拋光裝置,其特征在于:所述基板通過滑動導軌設置在基座上。
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