[發(fā)明專利]一種掠入射X射線顯微鏡的強(qiáng)度標(biāo)定方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711203254.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108169790B | 公開(公告)日: | 2020-08-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 穆寶忠;李亞冉;謝青;陳志強(qiáng);忻秋琪;王麗曉;王新;王占山 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 同濟(jì)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01T7/00 | 分類號(hào): | G01T7/00 |
| 代理公司: | 上海科盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31225 | 代理人: | 趙繼明 |
| 地址: | 200092 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 入射 射線 顯微鏡 強(qiáng)度 標(biāo)定 方法 | ||
1.一種掠入射X射線顯微鏡的強(qiáng)度標(biāo)定方法,其特征在于,所述的方法包括以下步驟:
S1、安裝系統(tǒng)中各實(shí)驗(yàn)部件并進(jìn)行實(shí)驗(yàn)部件調(diào)整使系統(tǒng)達(dá)到最優(yōu)分辨率;
S2、移動(dòng)針孔光闌,測(cè)量各個(gè)視場(chǎng)位置的出射光譜;
S3、將X射線顯微鏡從光路中移出,在孔徑光闌后方測(cè)量各個(gè)視場(chǎng)下系統(tǒng)的入射光譜;
S4、利用測(cè)得的出射光譜和入射光譜對(duì)能量分辨范圍內(nèi)的光子進(jìn)行計(jì)數(shù),計(jì)算各個(gè)視場(chǎng)的物鏡反射率;
S5、利用物鏡反射率計(jì)算系統(tǒng)響應(yīng)效率;
S6、根據(jù)顯微鏡的系統(tǒng)響應(yīng)效率、濾片的透過率以及相機(jī)的量子效率,計(jì)算得到內(nèi)爆靶丸的源強(qiáng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種掠入射X射線顯微鏡的強(qiáng)度標(biāo)定方法,其特征在于,所述的步驟S5中系統(tǒng)響應(yīng)效率Rkb計(jì)算公式為:
其中,M為放大倍數(shù),Ω為集光立體角,ηkb為物鏡反射率。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種掠入射X射線顯微鏡的強(qiáng)度標(biāo)定方法,其特征在于,所述的步驟S4中物鏡反射率計(jì)算公式為:
ηkb=Φ2(λ)/Φ1(λ)
其中,Φ1(λ)表示入射光通量,Φ2(λ)表示出射光通量。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種掠入射X射線顯微鏡的強(qiáng)度標(biāo)定方法,其特征在于,所述的放大倍數(shù)M是在對(duì)網(wǎng)格背光成像的基礎(chǔ)上,分別在水平和豎直方向通過對(duì)比網(wǎng)格周期間距的實(shí)測(cè)值與標(biāo)稱值得到。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種掠入射X射線顯微鏡的強(qiáng)度標(biāo)定方法,其特征在于,所述的集光立體角Ω計(jì)算公式為:
Ω=πD2/4u2
其中,D是孔徑光闌的直徑,u是物距。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種掠入射X射線顯微鏡的強(qiáng)度標(biāo)定方法,其特征在于,所述的步驟S6中內(nèi)爆靶丸的源強(qiáng)根據(jù)以下公式獲得:
其中,RD為入射光子轉(zhuǎn)化成的光強(qiáng)計(jì)數(shù),bkg為由電、熱噪聲所引起的背景計(jì)數(shù),ηkb為物鏡反射率,ηf為濾片的透過率,ηccd為相機(jī)的量子效率,M為放大倍數(shù),Ω為集光立體角,L(x0,y0,λ)為內(nèi)爆靶丸面積微元的光亮度,(x0,y0)為內(nèi)爆靶丸面積微元中心坐標(biāo)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種掠入射X射線顯微鏡的強(qiáng)度標(biāo)定方法,其特征在于,所述的步驟S1中的系統(tǒng)包括X射線光管、針孔光闌、孔徑光闌、X射線顯微鏡和譜分辨探測(cè)器,所述的X射線光管、針孔光闌、孔徑光闌、X射線顯微鏡和譜分辨探測(cè)器依次排列,所述的系統(tǒng)設(shè)置兩塊前后正交放置的X射線顯微鏡。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種掠入射X射線顯微鏡的強(qiáng)度標(biāo)定方法,其特征在于,所述的針孔光闌的針孔直徑為10~20μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種掠入射X射線顯微鏡的強(qiáng)度標(biāo)定方法,其特征在于,所述的方法進(jìn)行一維或二維視場(chǎng)下的出射光譜和入射光譜測(cè)量。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種掠入射X射線顯微鏡的強(qiáng)度標(biāo)定方法,其特征在于,根據(jù)各個(gè)視場(chǎng)的物鏡反射率,獲得物鏡反射率與視場(chǎng)位置變化曲線,作為計(jì)算單波長(zhǎng)光源或多波長(zhǎng)范圍光源源強(qiáng)的依據(jù)。
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