[發明專利]一種耐磨增透的熔融石英窗口片的制造方法在審
| 申請號: | 201711201301.0 | 申請日: | 2017-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN109837529A | 公開(公告)日: | 2019-06-04 |
| 發明(設計)人: | 韓崇利 | 申請(專利權)人: | 成都中源紅科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/505 | 分類號: | C23C16/505;C23C16/40;C23C16/26;C03C17/34 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610100 四川省成都市*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 窗口片 熔融石英 沉積 氬離子 耐磨 增透 制造 類金剛石薄膜 類金剛石膜 清洗預處理 射頻源放電 真空室真空 氬氣 基片表面 射頻陰極 增透薄膜 氬氣離子 對基板 拋光面 射頻源 透光率 真空室 沾染 丁烷 防臟 刮傷 基板 極板 臟污 薄膜 轟擊 對準 重復 保證 | ||
1.一種耐磨增透的熔融石英窗口片的制造方法,包括:基板、類金剛石薄膜和增透薄膜;所述基板用熔融石英制成;所述基板依次沉積有增透薄膜和類金剛石薄膜;所述增透薄膜設置有6層,每層厚度為40nm,所述類金剛石薄膜有4層,每層厚度為40-50nm;所述類金剛石薄膜沉積在基板兩側表面上,其特征在于,包括如下步驟:(1)以熔融石英為原料制造基板;(2)對基板的拋光面進行清洗預處理;(3)將基片放置在PECVD設備射頻陰極極板上,并將真空室真空抽至3×10-3Pa,接著向射頻源充入氬氣,同時射頻源放電將氬氣離子化形成氬離子,氬離子對準基片進行7-15min轟擊;(4)向真空室內充滿乙烯基倍半硅氧烷,即在基片表面沉積形成增透膜;(5)將工件溫度緩慢降至室溫,降溫速率為50℃/h;(6)重復進行步驟(1)-(3),之后向真空室充滿氣體丁烷,完成基片表面沉積形成類金剛石膜;(7)將工件溫度緩慢降至室溫,降溫速率為50℃/h即得。
2.根據權利要求1所述的一種耐磨增透的熔融石英窗口片的制造方法,其特征在于,所述步驟(6)中所述基片離射頻源190mm,丁烷充入的流量為50sccm。
3.根據權利要求1所述的一種耐磨增透的熔融石英窗口片的制造方法,其特征在于,所述清洗預處理具體為:將基片放置在酒精中超聲波清洗10min,然后用去離子水反復沖洗后吹干。
4.根據權利要求1所述的一種耐磨增透的熔融石英窗口片的制造方法,其特征在于,步驟(1)所述基片的制造過程包括:熔煉、成型、退火和檢驗。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





