[發(fā)明專(zhuān)利]一種紅外光學(xué)用增透保護(hù)膜及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711200961.7
• 申請(qǐng)日: 2017-11-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109839679A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 韓崇利
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 成都中源紅科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G02B1/115
• 分類(lèi)號(hào): G02B1/115;G02B1/111;G02B1/14;C23C16/22;C23C16/505;C23C16/511
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1.一種紅外光學(xué)用增透保護(hù)膜，其特征在于，包括BP膜和HfON膜，所述BP膜和HfON膜再基片表面依次鍍膜；所述BP膜和HfON膜以5um為中心波長(zhǎng)，應(yīng)用于4-6um波段；所述BP膜的光學(xué)厚度為30-80um，其折射率為2.8；所述HfON膜的光學(xué)厚度為3um，其折射率為2.3；所述BP膜和HfON膜的材料為氟化鎂、氧化鈦、硫化鉛、硒化鉛和乙烯基倍半硅氧烷中的一種或幾種。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紅外光學(xué)用增透保護(hù)膜，其特征在于，包括BP膜和HfON膜，所述BP膜和HfON膜再基片表面依次沉積；所述BP膜和HfON膜以8um為中心波長(zhǎng)，應(yīng)用于7-9um波段；所述BP膜的光學(xué)厚度為20-120um，其折射率為3.5；所述HfON膜的光學(xué)厚度為2um，其折射率為2.0；所述BP膜材料為氟化鎂，所述HfON膜的材料為乙烯基倍半硅氧烷。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紅外光學(xué)用增透保護(hù)膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：(1)對(duì)基片拋光面進(jìn)行預(yù)處理，所述預(yù)處理為：將基片放置在酒精中并通過(guò)超聲波清洗6-15min，然后用去離子水反復(fù)沖洗后吹干；(2)在預(yù)處理后的基片表面鍍HfON膜；(3)在HfON膜上鍍BP膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紅外光學(xué)用增透保護(hù)膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：(1)對(duì)基片拋光面進(jìn)行預(yù)處理，所述預(yù)處理為：將基片放置在酒精中并通過(guò)超聲波清洗13min，然后用去離子水反復(fù)沖洗后吹干；(2)在預(yù)處理后的基片表面鍍HfON膜；(3)在HfON膜上鍍BP膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紅外光學(xué)用增透保護(hù)膜的制備方法，其特征在于，所述鍍膜具體步驟為：借助微波或射頻使含有HfON膜和BP膜組成的原子氣體電離，并在基片表面局部形成等離子體，化學(xué)活性強(qiáng)的等離子體在基片表面沉積出HfON膜和BP膜，即完成鍍膜。