[發(fā)明專利]雙腔體壓電射流主動散熱裝置及終端

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711200601.7
• 申請日: 2017-11-24
• 公開（公告）號: CN109841584A
• 公開（公告）日: 2019-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 丁耀民;施立志
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州攀特電陶科技股份有限公司
• 主分類號: H01L23/467
• 分類號: H01L23/467;G06F1/20
• 代理公司: 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371
• 代理人: 金相允

1.一種雙腔體壓電射流主動散熱裝置，其特征在于，包括：

至少一個射流單元(100)，所述射流單元(100)包括對稱設(shè)置的第一壓電振子(110)和第二壓電振子(120)；

所述第一壓電振子(110)和所述第二壓電振子(120)均包括基片(101)和貼覆于所述基片(101)上的壓電體(102)；

所述第一壓電振子(110)的壓電體(102)和所述第二壓電振子(120)的壓電體(102)均朝外設(shè)置，所述第一壓電振子(110)的基片(101)和所述第二壓電振子(120)的基片(101)之間形成腔室(103)，所述腔室(103)的一端開口；

所述第一壓電振子(110)和所述第二壓電振子(120)背向運動以吸入空氣至所述腔室(103)，相向運動以排出空氣，從而形成射流。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙腔體壓電射流主動散熱裝置，其特征在于，

所述第一壓電振子(110)和所述第二壓電振子(120)之間還設(shè)置有內(nèi)部支撐框架(130)，所述內(nèi)部支撐框架(130)的頂端開口，底端用于密封所述腔室(103)的底端。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙腔體壓電射流主動散熱裝置，其特征在于，

設(shè)置有兩個射流單元(100)，兩個射流單元(100)并排設(shè)置，并且開口朝向同一側(cè)，兩個所述射流單元(100)的外側(cè)均設(shè)置有外側(cè)支撐框架(140)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙腔體壓電射流主動散熱裝置，其特征在于，

所述射流單元(100)中部設(shè)置有中間基片(150)，所述中間基片(150)將所述射流單元(100)的腔室(103)分隔為第一子腔室和第二子腔室。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙腔體壓電射流主動散熱裝置，其特征在于，

所述第一壓電振子(110)和所述中間基片(150)之間，以及所述第二壓電振子(120)和所述中間基片(150)之間均設(shè)置有內(nèi)部支撐框架(130)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的雙腔體壓電射流主動散熱裝置，其特征在于，所述第一壓電振子(110)以及所述第二壓電振子(120)的外側(cè)設(shè)置有外側(cè)支撐框架(140)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙腔體壓電射流主動散熱裝置，其特征在于，

所述內(nèi)部支撐框架(130)以及所述外側(cè)支撐框架(140)的材質(zhì)為硅膠。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙腔體壓電射流主動散熱裝置，其特征在于，

所述基片(101)的厚度t滿足：0.08mm＜t＜0.16mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙腔體壓電射流主動散熱裝置，其特征在于，

所述壓電體(102)與所述基片(101)的厚度比值為：1.0～1.2。

10.一種終端，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-9任一項所述的壓電射流主動散熱裝置。