[發明專利]一種基于PIV測速方式的測量襟翼縫道流動的裝置

有效

• 申請號: 201711196443.2
• 申請日: 2017-11-25
• 公開（公告）號: CN107748052B
• 公開（公告）日: 2018-09-21
• 發明（設計）人: 董昊;夏天宇;耿璽;劉松;劉是成;張亞曉
• 申請（專利權）人: 南京航空航天大學
• 主分類號: G01M9/02
• 分類號: G01M9/02
• 代理公司: 蘇州潤桐嘉業知識產權代理有限公司 32261
• 代理人: 胡思棉

1.一種測量襟翼縫道流動的裝置，包括分光結構，反光結構；所述的分光結構包括分束立方體(2)以及分束立方體轉接器(3)，所述的分束立方體(2)為非偏正光學分束立方體，分束立方體(2)由兩塊直角棱鏡組成，能夠將入射光按1:1的比例分為反射光和透過光，所述的分束立方體轉接器(3)為金屬制件，所述的反光結構包括第一方形全反射鏡固定架(5)，第二方形全反射鏡固定架(7)以及第一平面全反射鏡(6)和第二平面全反射鏡(8)，其特征在于，還包括測算已通過粒子流速的PIV單元(1)，所述的PIV單元(1)的光路照射方向與待測粒子運動方向平行，所述的分束立方體(2)通過旋轉分束立方體轉接器(3)上的旋鈕，使分束立方體(2)卡在分束立方體轉接器內；所述的分束立方體轉接器(3)通過調節二維高穩定鏡架(4)上的旋鈕使二者連接在一起，并通過桿架結構(9)與下底板(10)連接，所述的第一平面全反射鏡(6)，第二平面全反射鏡(8)通過分別調節第一方形全反射鏡固定架(5)和第二方形全反射鏡固定架(7)上一端的兩個旋鈕，將第一平面全反射鏡(6)固定在第一方形全反射鏡固定架(5)上，將第二平面全反射鏡(8)固定在第二方形全反射鏡固定架(7)上，所述的第一方形全反射鏡固定架(5)和第二方形全反射鏡固定架(7)通過桿架結構(9)與下底板(10)連接，第一平面全反射鏡(6)與所在方向上的激光成45°角，第二平面全反射鏡(8)與所在方向的激光成45°角。

2.根據權利要求1所述的一種測量襟翼縫道流動的裝置，其特征在于：所述的PIV單元(1)射出端需要緊靠分束立方體(2)布置。

3.根據權利要求1所述的一種測量襟翼縫道流動的裝置，其特征在于：所述的分束立方體(2)的鍍膜面應作為內側面和分束立方體轉接器(3)接觸。

4.根據權利要求2所述的一種測量襟翼縫道流動的裝置，其特征在于：所述的包含有分束立方體(2)的分束立方體轉接器(3)水平放置連接在二維高穩定鏡架(4)上。

5.根據權利要求2所述的一種測量襟翼縫道流動的裝置，其特征在于：所述分光結構將有分束立方體(2)的一端靠近PIV射出端。

6.根據權利要求2所述的一種測量襟翼縫道流動的裝置，其特征在于：所述的第一平面全反射鏡(6)和第二平面全反射鏡(8)前鍍有光學介質膜。

7.根據權利要求2所述的一種測量襟翼縫道流動的裝置，其特征在于：所述的PIV單元(1)射出端、分束立方體(2)和分束立方體轉接器(3)以及第一平面全反射鏡(6)，第一方形全反射鏡固定架(5)應在同一軸線上，且平行于風洞氣流來流方向。