[發明專利]一種高效率納米材料真空鍍膜機

有效

• 申請號: 201711195246.9
• 申請日: 2017-11-24
• 公開（公告）號: CN107881471B
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發明（設計）人: 于琪芳
• 申請（專利權）人: 深圳市宏佳譽科技開發有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;C23C14/52;C23C14/56;B82Y40/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種高效率納米材料真空鍍膜機，包括主泵、排氣機構與機身，所述機身的下端活動安裝有萬向輪，且機身的前端外表面中間位置處設置有操作面板，所述操作面板的外表面固定安裝有主泵開關，所述操作面板的外表面靠近主泵開關的一側設置有輔助泵開關，且操作面板的外表面靠近主泵開關的另一側設置有急停按鈕，所述主泵固定安裝在機身的上端外表面，所述主泵的上端外表面固定安裝有玻璃鐘罩，且主泵的下端外表面固定安裝有輔助泵。該高效率納米材料真空鍍膜機，通過蒸發電源的蒸發電極的追加，可以實現同時蒸鍍和多層蒸鍍，解決了現有的生產效率低、產品組分均勻性不好的問題，同時排氣裝置易于移動，方便人員操作。

技術領域

本發明涉及機械設備領域，具體為一種高效率納米材料真空鍍膜機。

背景技術

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種，蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜，傳統的蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素有許多，譬如基片材料與靶材的晶格匹配程度、基片表面溫度、蒸發功率與速率、真空度等，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好，從而對鍍膜產品的質量以及生產效率造成一定的影響。

發明內容

(一)解決的技術問題

針對現有技術的不足，本發明提供了一種高效率納米材料真空鍍膜機，解決了現有的生產效率低、產品組分均勻性不好的問題。

(二)技術方案

為實現以上目的，本發明通過以下技術方案予以實現：一種高效率納米材料真空鍍膜機，包括主泵、排氣機構與機身，所述機身的下端活動安裝有萬向輪，且機身的前端外表面中間位置處設置有操作面板，所述操作面板的外表面固定安裝有主泵開關，所述操作面板的外表面靠近主泵開關的一側設置有輔助泵開關，且操作面板的外表面靠近主泵開關的另一側設置有急停按鈕，所述主泵固定安裝在機身的上端外表面，所述主泵的上端外表面固定安裝有玻璃鐘罩，且主泵的下端外表面固定安裝有輔助泵，所述主泵的一側外表面固定安裝有一號不銹鋼波紋管，且主泵的一側外表面靠近玻璃鐘罩的上方固定安裝有主泵真空表，所述一號不銹鋼波紋管的下方設置有三通閥門，所述玻璃鐘罩的下端外表面靠近主泵的一側固定安裝有單向閥門，且玻璃鐘罩的內部中間位置處設置有基板，所述玻璃鐘罩靠近下端的四周固定安裝有維修孔，相鄰兩組所述維修孔之間設置有蒸發電極，所述蒸發電極通過嵌入式對稱安裝在玻璃鐘罩的內部，所述維修孔的一側分別設置有真空計孔與真空密封孔；

所述機身的內部靠近輔助泵的一側設置有蒸發電源，所述排氣機構設置在機身的內部靠近輔助泵的另一側，所述蒸發電源的前端外表面設置有蒸發電源開關，所述蒸發電源的前端外表面靠近蒸發電源開關的一側固定安裝有蒸發電源提手，且蒸發電源的前端外表面靠近蒸發電源開關的另一側固定安裝有顯示屏，所述蒸發電源的前端外表面靠近蒸發電源開關的下方設置有散熱孔，所述蒸發電源的前端外表面靠近顯示屏的下方設置有參數調節鍵，所述排氣機構的下方設置有底座，且排氣機構的下端設置有腳輪，所述機身的后端外表面靠近排氣機構的位置處固定安裝有排氣口。

可選的，所述萬向輪的數量為四組，且其平行設置，所述萬向輪的內部均設置有制動片。

可選的，所述操作面板的四周均設置有固定螺栓，且操作面板通過固定螺栓與機身固定連接，所述操作面板外表面靠近上方的位置處固定安裝有設備銘牌，所述主泵開關、輔助泵開關與急停按鈕的上方均設有與之對應的指示燈。

可選的，所述輔助泵的一側外表面固定安裝有輔助泵真空表，且輔助泵的另一側外表面設置有二號不銹鋼波紋管，所述二號不銹鋼波紋管與一號不銹鋼波紋管的出口端與三通閥門連接。