[發(fā)明專利]電極磚推進設備及電熔玻璃窯爐

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201711194300.8
• 申請日: 2017-11-24
• 公開（公告）號: CN107892464A
• 公開（公告）日: 2018-04-10
• 發(fā)明（設計）人: 郭建軍;李青;嚴雷;吳軍;王建輝;李兆廷;王磊;羅玉松
• 申請（專利權）人: 鄭州旭飛光電科技有限公司;東旭光電科技股份有限公司
• 主分類號: C03B5/02
• 分類號: C03B5/02;C03B5/16
• 代理公司: 北京英創(chuàng)嘉友知識產權代理事務所(普通合伙)11447
• 代理人: 陳慶超,桑傳標

1.一種電極磚推進設備，其特征在于，所述電極磚推進設備包括電極磚(1)、與所述電極磚(1)后部連接的水冷裝置(2)、和用于沿推進方向(A)調節(jié)所述水冷裝置(2)和所述電極磚(1)的位置的推進結構。

2.根據(jù)權利要求1所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述推進結構包括固定基座(3)和可沿所述推進方向(A)調整位置地設置在該固定基座(3)上的推進桿(4)，該推進桿(4)位于所述水冷裝置(2)背對于所述電極磚(1)的一側并與所述水冷裝置(2)抵接或連接。

3.根據(jù)權利要求2所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述水冷裝置(2)的后側設置有推進板(5)，所述推進桿(4)通過所述推進板(5)與所述水冷裝置(2)抵接。

4.根據(jù)權利要求3所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述推進板(5)的兩側突出于所述水冷裝置(2)的兩側，所述推進桿(4)為兩個以上，且分別與所述推進板(2)兩側的突出部分抵接。

5.根據(jù)權利要求4所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述推進桿(4)和所述推進板(5)之間設置有絕緣墊(51)，所述推進板(5)的所述突出部分上分別形成有用于容納并定位所述絕緣墊(51)的凹槽。

6.根據(jù)權利要求3所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述推進桿(4)為第一螺桿，所述固定基座(3)上形成有安裝孔(31)，所述第一螺桿安裝到所述安裝孔(31)內且與所述固定基座(3)的螺紋配合，所述第一螺桿的端部垂直地抵頂在所述推進板(5)上。

7.根據(jù)權利要求1-6中任一項所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述水冷裝置(2)包括第一水冷裝置(21)和第二水冷裝置(22)，所述第一水冷裝置(21)設置在所述電極磚(1)后部的上端，所述第二水冷裝置(22)設置在所述電極磚(1)后部的下端。

8.根據(jù)權利要求7所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述水冷裝置(2)內部形成為空腔結構以用作冷卻液通道，所述第一水冷裝置(21)和所述第二水冷裝置(22)的靠近下側的部分分別形成有與所述冷卻液通道流通的進液口(23)，所述第一水冷裝置(21)和所述第二水冷裝置(22)的靠近上側的部分分別形成有與所述冷卻液通道流通的出液口(24)。

9.根據(jù)權利要求1所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述水冷裝置(2)通過緊固件與所述電極磚(1)后部可拆卸地連接。

10.根據(jù)權利要求9所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述緊固件包括銷軸(61)和螺栓(62)，所述銷軸(61)上開設有第一螺紋孔，所述螺栓(62)穿過所述水冷裝置(2)和所述電極磚(1)的后部，所述銷軸(61)垂直于所述螺栓(62)并從所述電極磚(1)的側部穿進，使所述螺栓(62)與所述第一螺紋孔螺紋配合。

11.根據(jù)權利要求1所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述電極磚推進設備還包括風冷裝置(7)，所述風冷裝置(7)包括位于所述電極磚(1)的兩側的第一風冷裝置(71)和第二風冷裝置(72)，以及位于所述電極磚(1)的頂部的第三風冷裝置(73)，各個所述風冷裝置(7)上形成有沿其長度方向間隔布置的多個出風口(74)，以用于向所述電極磚(1)和池壁磚(8)的縫隙吹風。

12.根據(jù)權利要求1所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述電極磚推進設備還包括位于所述電極磚(1)底部的支撐結構，該支撐結構包括底座(91)和設置在該底座(91)上并用于與所述電極磚(1)底部滾動接觸的滾輪組件(96)。

13.根據(jù)權利要求12所述的電極磚推進設備，其特征在于，所述滾輪組件(96)通過高度調節(jié)件可沿高度方向上調節(jié)位置地設置在所述底座(91)上，所述高度調節(jié)件包括設置在所述底座(91)上的下楔形塊(92)、與該下楔形塊(92)楔形面配合的上楔形塊(93)、以及設置在所述上楔形塊(93)和所述下楔形塊(92)之間的第二螺桿(94)，所述滾輪組件(96)設置在所述上楔形塊(93)上，該第二螺桿(94)用于驅動所述上楔形塊(93)相對于所述下楔形塊(92)沿楔形面調整位置，以調整所述滾輪組件(96)在所述高度方向上的位置。