[發明專利]具有抽真空的雙膜片和真空監控裝置的隔膜密封組件

有效

• 申請號: 201711191369.5
• 申請日: 2017-11-24
• 公開（公告）號: CN108240885B
• 公開（公告）日: 2021-10-15
• 發明（設計）人: 約阿希姆·齊普;烏多·羅桑伯格;托爾斯滕·鮑林;海科·克恩;阿爾布雷克特·卡利施;烏多·霍寧
• 申請（專利權）人: WIKA亞歷山大·威甘德歐洲股份兩合公司
• 主分類號: G01L19/06
• 分類號: G01L19/06
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 王瑞朋;王朝輝

1.一種隔膜密封組件(1)，具有：

基體(10)，其具有至少一個第一膜片(31；31A)和第二膜片(32；32A)，

第一測量儀器(MG)，用于監控過程介質的壓力，以及

第二測量儀器(LEG)，其中

所述第一膜片(31；31A)朝向要監控的過程介質，

所述第二膜片(32；32A)朝向流體填充的壓力路徑(50)，以及

在所述第一膜片(31；31A)和所述第二膜片(32；32A)之間構成中間空間(51)，其中所述中間空間(51)是被抽真空的并且所述第二測量儀器(LEG)監控在所述中間空間(51)中存在的真空，

其特征在于，

圍繞所述第一膜片(31；31A)的外邊緣但是在第二膜片(32；32A)的外邊緣之內安置有圓形的環形通道。

2.根據權利要求1所述的隔膜密封組件(1)，

其中在所述基體(10)中設置有凹進部，以便在所述基體(10)中設置至少兩個凹進部臺階，所述凹進部臺階通過預定的最小間距、臺階高度(H)彼此間隔開并且用于設置所述第一膜片(31；31A)和第二膜片(32；32A)，其中所述第一膜片(31；31A)的外邊緣設置在一個凹進部臺階上而所述第二膜片(32；32A)的外邊緣設置在另一凹進部臺階上。

3.根據權利要求2所述的隔膜密封組件(1)，

其中在兩個膜片或焊接條之間的預定的最小間距為0.02mm-1.5mm。

4.根據權利要求2所述的隔膜密封組件(1)，

其中在兩個膜片之間的最小間距通過凹進部臺階尺寸(H)限定，該凹進部臺階尺寸比所述第二膜片(32)的厚度(d)大0.05mm-1.5mm。

5.根據權利要求2所述的隔膜密封組件(1)，

其中所述預定的最小間距通過在所述膜片(32)的膜片厚度(d)和所述凹進部臺階的尺寸之間的差來形成，所述差在0.01mm-1.2mm的范圍內。

6.根據權利要求2至5中任一項所述的隔膜密封組件(1)，

其中所述第一膜片(31A)和所述第二膜片(32A)構建為管式膜片形式并且所述第一膜片(31A)設置在所述第二膜片(32A)之內，其中所述第一膜片(31A)的外邊緣是所述第一膜片的外環周，而所述第二膜片(32A)的外邊緣是所述第二膜片的外環周，并且其中所述第一膜片(31A)的外環周和所述第二膜片(32A)的外環周通過預定的最小間距來間隔開。

7.根據權利要求2至5中任一項所述的隔膜密封組件(1)，

其中所述基體(10)還具有與所述第二測量儀器(LEG)流體連接的槽(40)，所述槽設置在所述第二膜片(32)的凹進部臺階中并且橫向上在所述第二膜片(32)的外邊緣之外。

8.根據權利要求1至5中任一項所述的隔膜密封組件(1)，

其中所述第二測量儀器(LEG)和在所述第一膜片(31；31A)和所述第二膜片(32；32A)之間的中間空間(50)通過通道(25，26；25C，26；25A；25A，25B，26)流體連接，并且其中抽真空接頭(41)與所述通道(25，26；25C，26；25A；25A，25B，26)氣密地連接，所述抽真空接頭(41)雙重氣密地封閉。

9.根據權利要求1至5中任一項所述的隔膜密封組件(1)，

其中閥和/或膜裝置集成在所述通道(25，26；25C，26；25A；25A，25B，26)中，所述閥和/或膜裝置保護第二測量儀器(LEG)在泄漏情況下以免過壓。

10.根據權利要求1至5中任一項所述的隔膜密封組件(1)，

其中所述膜片(31；31A；32；32A)具有0.01mm-0.5mm的厚度，和/或所述膜片(31；31A；32；32A)波形地構成，具有0.5mm-20mm的波長，和0.1mm-2.0mm的雙倍的幅度，或臺階形地構成，具有0.5mm-20mm的臺階間距。