[發明專利]一種石墨烯片的制備方法在審
| 申請號： | 201711188232.4 | 申請日： | 2017-11-24 |
| 公開（公告）號： | CN109841349A | 公開（公告）日： | 2019-06-04 |
| 發明（設計）人： | 金闖 | 申請（專利權）人： | 太倉斯迪克新材料科技有限公司 |
| 主分類號： | H01B13/00 | 分類號： | H01B13/00;H01B13/30;H01B5/14;H01B1/24 |
| 代理公司： | 蘇州凱謙巨邦專利代理事務所(普通合伙) 32303 | 代理人： | 丁劍 |
| 地址： | 215400 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 持續攪拌 石墨氧化物 去離子水 石墨烯片 粉體 制備 雙氧水 片狀石墨烯片 氬氣 過錳酸鉀 平面橫向 石墨粉體 鹽酸清洗 真空接觸 氫氣 石墨粉 熱源 冰浴 硫酸 還原 溶解 剝離 | ||
【權利要求書】：
1.一種石墨烯片的制備方法，該方法包括：
取一石墨粉10g置于230mL的硫酸中，在冰浴中緩慢加入30g的過錳酸鉀(KMnO4)維持在20℃持續攪拌，溶解后在35℃下再持續攪拌40分鐘，再緩慢加入460mL的去離子水，維持在35℃持續攪拌20分鐘，反應結束后加入1.4L的去離子水及100mL的雙氧水(H2O2)，靜置24小時候以5％的鹽酸清洗，再于真空中干燥，而得到石墨氧化物粉體。接著，將該石墨氧化物粉體在真空接觸高于1100℃的熱源，則會剝離成石墨粉體材料，再經過1400下以5％氫氣及95％氬氣進行還原，以降低氧含量至1.5wt％以下，而得到本發明所采用的厚度小于10nm，且平面橫向尺寸大于1um的片狀石墨烯片。
接著將石墨烯片，先放入N-甲基吡咯烷酮(NMP)溶劑中，配置成濃度250ppm的懸浮溶液，該懸浮溶液的表面張力為40mJ/m2，表面電位為-100.4mV，再加入聚(3,4-亞乙二氧基噻吩)-聚苯乙烯磺酸(PEDOT：PSS)作為透明導電粘合劑，再以行星式球磨機研磨2小時，制成石墨烯導電漿料。再將石墨烯導電漿料噴涂于透明基材，并烘干充分使N-甲基吡咯烷酮(NMP)溶劑揮發后，形成石墨烯透明導電膜，再以四點探針量測片電阻值，以紫外光可見光分光光譜儀量測可見光透光度，再此以波長550nm作為可見光源。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于太倉斯迪克新材料科技有限公司，未經太倉斯迪克新材料科技有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711188232.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
