[發明專利]一種延長ALD真空計使用壽命的方法有效
| 申請號： | 201711178850.0 | 申請日： | 2017-11-23 |
| 公開（公告）號： | CN107841730B | 公開（公告）日： | 2019-09-13 |
| 發明（設計）人： | 張洪國;夏玉明;夏樹勝;王超;張凱;馬軍濤 | 申請（專利權）人： | 滁州國凱電子科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/52 | 分類號： | C23C16/52;C23C16/455 |
| 代理公司： | 江蘇斐多律師事務所 32332 | 代理人： | 袁敏 |
| 地址： | 239000 安徽省滁州市世*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 延長 ald 真空計 使用壽命 方法 | ||
1.一種延長ALD真空計使用壽命的方法，其特征在于，所述方法為：對真空計電磁閥進行間斷關閉控制；
所述方法具體步驟包括：
(1)在ALD未進行沉積工作時，將真空計電磁閥打開；
(2)當ALD開始沉積工作時，利用真空計電磁閥檢測系統的真空度；
(3)開啟真空計控制系統，當系統真空度達到設定的要求時，且數據穩定后，關閉電磁閥；
(4)一段時間后短暫打開電磁閥以監測系統真空度，保證系統的真空度在設定值范圍內；
所述真空計的控制是用以PLC控制器為基礎的，采用PID閉環控制方式進行，其中真空計電磁閥通過RS232或RS485串口與PLC控制器連接。
2.根據權利要求1所述的一種延長ALD真空計使用壽命的方法，其特征在于，所述的ALD真空計包括電極、傳感器、燈絲。
3.根據權利要求1所述的一種延長ALD真空計使用壽命的方法，其特征在于，所述步驟(3)的真空度數據穩定是指，系統內的真空度與設定值偏差≤5％。
4.根據權利要求1所述的一種延長ALD真空計使用壽命的方法，其特征在于，所述的步驟(4)中，一段時間指1-10min。
5.根據權利要求1所述的一種延長ALD真空計使用壽命的方法，其特征在于，所述的步驟(4)中，短暫打開電磁閥是指每次打開時間為1-10s。
6.權利要求1-5任一項所述的一種延長ALD真空計使用壽命的方法，其特征 在于，所述的ALD設備包括反應室(1)，四通管道(2)，真空泵閥門(3)，熱阱(4)，真空計(5)，真空計電磁閥(6)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
