[發(fā)明專利]一種基于二維材料石墨烯相氮化碳制備鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711172666.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107887511B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-02-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王照奎;廖良生;姜璐璐 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L51/42 | 分類號(hào): | H01L51/42;H01L51/48 |
| 代理公司: | 32200 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 樓高潮 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 二維 材料 石墨 氮化 制備 鈣鈦礦 太陽(yáng)能電池 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種基于二維材料石墨烯相氮化碳制備鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的方法,將石墨烯相氮化碳摻雜到鈣鈦礦前驅(qū)體溶液中制備鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,該方法有如下優(yōu)勢(shì):(1)材料合成所需原料價(jià)格低廉且產(chǎn)物毒性小;(2)有效減緩?fù)嘶疬^(guò)程中溶劑的揮發(fā),使鈣鈦礦薄膜結(jié)晶更加均勻致密;(3)增大鈣鈦礦層晶粒結(jié)晶尺寸,有效減少電荷易復(fù)合的晶界,提高器件填充因子;(4)鈍化鈣鈦礦薄膜表面,有效改善器件的遲滯現(xiàn)象;(5)改善鈣鈦礦薄膜表面的導(dǎo)電性,有效減小界面接觸電阻,提高器件短路電流。本發(fā)明制作工藝簡(jiǎn)單便捷,制備難度低;通過(guò)石墨烯相氮化碳的摻雜,鈣鈦礦薄膜平整性和均一性得到有效提高,通過(guò)一系列梯度摻雜,器件性能有顯著變化。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光伏器件領(lǐng)域,尤其涉及一種基于二維材料石墨烯相氮化碳制備鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的方法。
背景技術(shù)
有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化鈣鈦礦太陽(yáng)能電池以其獨(dú)特的光學(xué)特性以及簡(jiǎn)單的制備工藝被認(rèn)為是可以與無(wú)機(jī)硅太陽(yáng)能電池相媲美的一種能源形式。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展,其光電轉(zhuǎn)換效率已超過(guò)22%,人們從材料,薄膜制備技術(shù),器件結(jié)構(gòu)以及物理機(jī)制進(jìn)行了一系列的深入研究。鈣鈦礦太陽(yáng)能電池有平面型和多孔型兩種器件結(jié)構(gòu)。平面型鈣鈦礦電池以其簡(jiǎn)單的制備工藝以及低溫薄膜處理技術(shù)得到廣泛關(guān)注。在平面結(jié)構(gòu)中,鈣鈦礦層處于電子傳輸層與空穴傳輸層之間,該層薄膜高質(zhì)量的結(jié)晶和優(yōu)質(zhì)的表面形貌是器件獲得高效率的關(guān)鍵。鈣鈦礦層的生長(zhǎng)是一個(gè)復(fù)雜的過(guò)程,依賴于前驅(qū)體溶劑的選擇,退火過(guò)程的溫度和時(shí)間的控制等,當(dāng)前常用的改善鈣鈦礦薄膜質(zhì)量的方法是通過(guò)溶劑調(diào)節(jié)。當(dāng)然一些表面鈍化的處理也是至關(guān)重要的,但內(nèi)在的機(jī)制仍然是模糊的,需要進(jìn)一步的探索。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有的制備純有機(jī)無(wú)機(jī)雜化鈣鈦礦薄膜結(jié)晶缺陷多,薄膜不致密,結(jié)晶過(guò)程形成的晶界較多等缺點(diǎn),本發(fā)明提供一種二維材料石墨烯相氮化碳(g-C3N4)作為添加劑介入到鈣鈦礦前驅(qū)體溶液中制備鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的制備方法,該制備方法在不改變器件制備工藝的前提下,引入了無(wú)毒的二維材料作為添加劑,有效的改善了鈣鈦礦薄膜的結(jié)晶狀況,減少了薄膜缺陷,使得器件制備穩(wěn)定且提高了器件光電轉(zhuǎn)換效率。
本發(fā)明采用以下技術(shù)方案,一種二維材料石墨烯相氮化碳作為添加劑介入到鈣鈦礦前驅(qū)體溶液中制備鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的制備方法,該方法的制備步驟如下:
(1)在FTO透明導(dǎo)電玻璃基片上沉積電子傳輸層TiO2薄膜;
(2)制備鈣鈦礦前驅(qū)體溶液;將石墨烯相氮化碳采用多種有機(jī)溶劑分別配置成前驅(qū)體添加劑,將每種有機(jī)溶劑配置的前驅(qū)體添加劑分別加入到鈣鈦礦前驅(qū)體溶液中,制備石墨烯相氮化碳前驅(qū)體添加劑摻雜的鈣鈦礦前驅(qū)體溶液;
(3)將步驟(1)沉積好TiO2的FTO基片放在臭氧機(jī)里臭氧處理后取出傳至手套箱,分別將步驟(2)制備的摻雜石墨烯相氮化碳前驅(qū)體添加劑的鈣鈦礦前驅(qū)體溶液在基片上利用旋涂方法制備薄膜,所述旋涂過(guò)程分為低速和高速兩步,并且在高速階段過(guò)程中滴加氯苯作為反溶劑;靜置1-10min后,將基片轉(zhuǎn)移至加熱臺(tái)上進(jìn)行退火處理;
(4)在步驟(3)制備的薄膜上通過(guò)旋涂法加工空穴傳輸層2,2',7,7'-四[N,N-二(4-甲氧基苯基)氨基]-9,9'-螺二芴;
(5)在步驟(4)制備的空穴傳輸層上利用熱蒸發(fā)技術(shù)沉積薄膜三氧化鉬和銀電極。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門(mén)適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門(mén)適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專門(mén)適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門(mén)適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
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