[發(fā)明專利]一種靜態(tài)CT系統(tǒng)幾何參數(shù)校正方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711165876.1 | 申請日: | 2017-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN108201447A | 公開(公告)日: | 2018-06-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蔣昌輝;胡戰(zhàn)利;梁棟;張其陽;石偉;洪序達;高娟;鄭海榮 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳先進技術(shù)研究院 |
| 主分類號: | A61B6/03 | 分類號: | A61B6/03;G01N23/04 |
| 代理公司: | 上海勝康律師事務(wù)所 31263 | 代理人: | 李獻忠;張靜 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 幾何參數(shù) 射線源 小球 校正 投影 幾何參數(shù)校正 校正體 探測器 投影中心 校正系統(tǒng) 一次射線 觸發(fā) 活體 離體 | ||
1.一種靜態(tài)CT系統(tǒng)幾何參數(shù)校正方法,所述靜態(tài)CT系統(tǒng)由多個射線源和一個以上探測器構(gòu)成,所述幾何參數(shù)為每個射線源與對應(yīng)的探測器之間的幾何參數(shù),其特征在于,所述方法包括如下步驟:
步驟a:將校正體模放置在需要校正幾何參數(shù)的靜態(tài)CT系統(tǒng)中,所述校正體模具有標(biāo)記小球;
步驟b:每個射線源觸發(fā)一次射線,獲得多幅投影;以及
步驟c:根據(jù)每幅投影中標(biāo)記小球的投影中心點的坐標(biāo),結(jié)合已知的標(biāo)記小球在待校正系統(tǒng)中的坐標(biāo),計算獲得整個靜態(tài)CT系統(tǒng)的校正后的幾何參數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜態(tài)CT系統(tǒng)幾何參數(shù)校正方法,其特征在于,所述幾何參數(shù)為所述靜態(tài)CT系統(tǒng)的10個幾何參數(shù),包括:射線源S的坐標(biāo)位置(Ox,Oy,Oz)、射線源S在探測器平面的投影中心點坐標(biāo)(u0,v0)、探測器的扭轉(zhuǎn)角θ、探測器的傾斜角φ、探測器的旋轉(zhuǎn)角η、射線源到掃描物體中心的距離(SOD),射線源到探測器的距離(SDD)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜態(tài)CT系統(tǒng)幾何參數(shù)校正方法,其特征在于,所述校正體模由支撐體和安裝于所述支撐體上的標(biāo)記小球構(gòu)成,所述支撐體為低吸收材料,所述標(biāo)記小球為高吸收材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的靜態(tài)CT系統(tǒng)幾何參數(shù)校正方法,其特征在于,所述支撐體為碳纖維材料或者聚甲基丙烯酸甲酯,所述標(biāo)記小球為鋼珠。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的靜態(tài)CT系統(tǒng)幾何參數(shù)校正方法,其特征在于,所述標(biāo)記小球的數(shù)量、大小以及位置以校正過程中在探測器上的投影不造成重疊為宜。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的靜態(tài)CT系統(tǒng)幾何參數(shù)校正方法,其特征在于,所述步驟c進一步包括如下步驟:
步驟c1:對于每幅投影圖,在小球投影坐標(biāo)(u,v)和實際校正體模中的標(biāo)記小球的三維坐標(biāo)(x,y,z)之間利用一個3×4投影矩陣A建立映射關(guān)系:
[Ax,Ay,Az,A]T=[au,av,a]T (1)
其中,α為一比例參數(shù),投影矩陣A的構(gòu)成如下:
A=K[S|t] (2)
上述(2)式中,K為一個3×3上三角矩陣,S為一個3×3旋轉(zhuǎn)矩陣,t為3×1位移向量,
上述(3)式中,u0和v0為射線源在探測器平面的投影點坐標(biāo),λ為探測器像素的大小,
公式(2)中旋轉(zhuǎn)矩陣S可以進一步用三角函數(shù)表達為:
θ為探測器的扭轉(zhuǎn)角、φ為探測器的傾斜角、η為探測器的旋轉(zhuǎn)角,公式(2)中位移向量t為:
步驟c2:由以上公式聯(lián)立求解,得到靜態(tài)CT系統(tǒng)的校正后的幾何參數(shù),包括:
探測器平面的投影中心點坐標(biāo)(u0,v0):
u0=K13,v0=K23 (6)
射線源到探測器的距離(SDD):
SDD=K11λ (7)
探測器的扭轉(zhuǎn)角θ、探測器的傾斜角φ、探測器的旋轉(zhuǎn)角η分別為:
θ=Arc tan 2(S32,S33)
η=Arc tan 2(S12,S11) (8)
射線源的位置坐標(biāo)為:
o=[ox,oy,oz]T=-STt (9)
得出的位移向量t=(t1,t2,t3):
t1=A34
t2=(A24-K23A34)/K22
t3=(A14-t13A34-K2A12)/K11 (10)
射線源到掃描物體中心的距離(SOD):
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